西安绿山半导体科技有限公司主要销售美国AZ光刻胶日本富士光刻胶日本TOK光刻胶德国Micro光刻胶德国Allres光刻胶

瑞士SU-8光刻胶美国Futurrex光刻胶罗门哈斯光刻胶

提供多种SU-8光刻胶，适用于不同的材料和应用环境。我们提供的光刻胶是配好的成品

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1.紫外光刻胶各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长:深紫外(DeepUV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度:光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。2.电子束光刻胶电子束抗蚀电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物，LIGA用胶等。电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。3.特殊工艺用光刻胶电子束曝光导电层，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。
4.配套试剂（Processchemicals）显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。负性光刻胶 粘性增强负性光刻胶高级加工负性光刻胶剥离处理用负性光刻胶正性光刻胶 粘性增强正性光刻胶非光刻涂层 平坦化、保护性、粘性涂层旋涂玻璃
旋涂掺杂辅助化学品 边胶清洗剂光刻胶显影剂光刻胶去除剂。
美国进口光刻胶试剂AZ安智光刻胶瑞士进口光刻胶高端科技应用材料仪器与销售主要用于半导体LED芯片；玻璃晶体、宝石、硬质合金、磁头、精密元器件、硬盘‘金属、陶瓷IC航空航天造船军事’卫星飞机通讯光纤‘金相试验切片表面研磨抛光加工领域，耐磨工件表面符合镀领域，各种行业产品高精密研磨抛光的最佳理想选择的材料；

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