发光成像工作站--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

发光成像工作站

英文名称：

国产/进口：

国产

产地/品牌：

上海天能

型号：

Tanon 6600

参考报价：

419800，详询：13761264119/15800629436

销售商：

上海天能科技有限公司

总点击数：

13474

更新日期：

2025-05-30

产品类别：

化学发光成像

性能参数

Tanon 6600 发光成像工作站适用高灵敏度的化学发光与活体动植物发光的检测，使用深度制冷的背照式CCD作为感光芯片，是一款极其灵敏的发光成像系统，可适用于要求较高的化学发光与部分活体动植物发光的检测。其使用的背照式CCD技术，具有极高的感光效率，是传统CCD的数倍。CCD采用深度制冷技术，保证达到最低暗噪音；使用全金属密封技术，实现永久真空环境。

性能特点

◆F/0.95，高清晰大口径高通透电动镜头与科研级高灵敏度数码制冷CCD的硬件配置，使实验者摆脱烦琐的传统的暗室曝光方式，方便快速高效地获得优质的化学发光实验结果；

◆化学发光、多色荧光与普通凝胶检测的一体化设计，提高实验空间的利用效率；

◆可通过电脑进行聚焦、透射光源及反射光源的全自动控制；

◆可通过电脑进行凝胶，化学发光与活体发光的实时观测

◆可选配高亮度LED红、绿、蓝反射激发光源，实现Cy2、Cy3、Cy5等多色荧光的拍摄

◆可设定连续采样的次数、时间间隔和起始及终止曝光时间，进行动态连续拍摄而方便获得最佳条件和效果的实验结果

技术规格

◆摄像头: 美国Princeton Instruments公司Pixis背照式相机

◆感光芯片: CCD芯片：e2v 背照式CCD感光芯片

◆冷却方式: 半导体制冷

◆冷却温度: 低于环境温度105℃（绝对温度-75℃，动态实时显示CCD制冷温度）

◆感光效率: CCD芯片光电转换效率：High QE: 96%

◆暗电流: <0.001 e-/pixel/sec. @ -70º C

◆读出燥声: 3e- RMS at 100KHz

◆有效像数: 1024×1024

◆像数密度 : 16 bit （0 - 65535色）

◆像数尺寸 : 13.3um×13.3um

◆像素合并: 1×1，2×2，3X3，4×4

◆分辨率: 100万像素

◆动态范围: ﹥4.8个数量级

◆电动镜头: F/0.95, 高清晰大口径高通透电动镜头，可通过计算机对焦距的电动调整

◆升降平台: 选配电脑控制4位自动定位样品载物升降平台，并可通过电脑进行无级定位控制

◆可兼容拍摄样品厚度0.01mm—10cm

◆照明模式: 反射白光

◆激发光源: LED反射白光灯（冷光）

◆滤光片位置: 无

◆滤光片: 无

◆拍摄面积: 16×16cm

软件特点

◆全中文软件，自动识别8bit、10bit、14bit、16bit的图像以及序列图像

◆具有实时图像采集软件，可用于核酸、蛋白电泳凝胶图像和化学发光图像的采集

◆具有自动曝光功能，可以实时自动曝光

◆单次成像：具有长时间曝光功能，可实现单张画面长时间曝光

◆累积曝光多次成像功能：可以在很长曝光时间内多次成像，且每次成像的曝光时间可以累积，从而避免反复曝光，而且用户可以挑选最中意的图像保存。

◆具有序列图像保存功能，无需单张图片分别存储

◆在拍摄中可显示过饱和像素，保证精确定量

◆具有加注功能，可添加各种格式的文字注释或符号

◆具有分析软件，可进行自动条带检测，自动分子量测算，自动条带浓度测算，相对含量百分数分析，绝对浓度、密度计算

◆具有点杂交和菌落计数分析功能，可进行菌落克隆计数、菌落面积分析与排序

◆图像叠加分析功能：可对两个图像进行合并显示，并进行分析

◆图像输出格式：8bit Tif、16bit Tif、bmp、jpg、序列图像

公司简介

上海天能科技有限公司成立于九十年代初。由多位学成回国的硕士、博士和国内医科专业及计算机专业毕业的有志者组成。专业从事分子生物学领域仪器的硬件、软件的研制、开发、生产及市场策划。目前正与中华医学会、数家医院及专业医疗机构合作开发数种医用教学及辅助诊断软件、硬件。

　　目前开发研制的主要产品有：Tanon 46系列、Tanon 52系列全自动化学发光图像分析系统；GIS数码凝胶图像分析系统；EPS系列数显稳压稳流电泳仪；HE系列电泳槽；VE系列蛋白相关电泳槽系列；UV紫外分析仪；MINI Space系列多功能凝胶图像分析系统；ABL X系列小动物活体图像分析系统等。Tanon所有仪器产品都是自主开发、国际合作及引进相结合，具有极佳的性能价格比，为从事分子生物学领域的研究人员提供了先进的研究工具。

　　"团结、奋进、敬业"的精神是天能人对用户的坚实承诺。

　　天能公司愿和您一起迎接新时期高技术的挑战。

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