超声波破碎/细胞破碎

PECVD系统-OTF-1200X-50-4CLV-PE

基本信息
产品名称:
PECVD系统-OTF-1200X-50-4CLV-PE
英文名称:
国产/进口:
国产
产地/品牌:
MTI--科晶集团--合肥科晶
型号:
OTF-1200X-50-4CLV-P
参考报价:
总点击数:
1359
更新日期:
2016-06-27

性能参数

 为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD), 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命。

技术参数

实验机理                             

  • 辉光放电等离子体中:电子密度高109-1012cm3
  • 电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍

产品特点

  • 虽环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解,离解和离化,从而大大提高了反应物的活性。因此,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。
  • 科晶公司提供定制的薄膜材料的实验室质量可靠、价格合理的紧凑型PECVD系统。
  • 下图显示的是PECVD法用500W交流等离子体与OTF1200X50、7通道精密质量流量计和高真空系统气体组成

 

 OTF-1200X开启式管式炉,工作温度高达1200℃

      化学气相沉积系统的组成图

 

开启式管式炉

  • 工作温度:1200℃
  • 炉管尺寸:Φ50,Φ60,Φ80都可用
  • 温度控制器:30段高精度数字可编程温度控制器
  • 加热区长度:440mm
  • 恒温区长度:150mm 注:由于测量手段及外部环境的影响,测量结果可能会有偏差,此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据,请与我公司销售人员联系 
  • 功率:AC 220V 4KW

等离子射频电源                       

  • 输出功率:50-500W最大可调±1%
  • RF频率: 13.56MHz,稳定性±0.005%
  • 噪声:≤55DB
  • 冷却:风冷
  • 输入功率:1KW  AC 220V

真空泵和阀门                          

  • 采用KF25系列波纹管和精密针阀连接
  • 真空度可达10-3torr
  • 本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5至 1125Torr.不需因测量气体种类不同而需要系数转换。(点击图片查看详细介绍)

质量流量计

  • 内部装有高精度数字显示质量流量计可准确的控制气体流量
  • 气体流量范围为0-200 误差为0.02%
  • 一个气体混气罐的底部安装了液体释放阀
  • 不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入
  • 进气口:采用国际标准双卡套接头

细节图展示

 

外形尺寸

  • 炉体:550*380*520mm
  • 供气及真空系统:600*600*597mm
  • 净重:120KG
开门断电 为保证使用安全,该电炉为开门断电设计
   

质保期

一年质保期相关耗材除外,如加热元件,密封圈等易耗件

质量认证

国家专利

专利名称:可组合式等离子增强化学气相沉积装置

专利编号:ZL-2011-2-0355777.1

尊重创新、鄙视抄袭、侵权必究

使用注意事项:
  • 炉管内气压不可高于0.02MPa
  • 由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全
  • 当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态
  • 进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
  • 石英管的长时间使用温度<1100℃
  • 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)
公司简介

    合肥科晶材料技术有限公司是美国MTI公司与中科院安徽光机所于1997年合资(MTI公司占80.23%的股份)兴办的高新技术企业,位于安徽省合肥市科学路10号,注册资金4200万元, 公司董事长江晓平博士毕业于东北大学(1981)。在中科院金属所授教师昌绪院士获博士学位(1988),并在美国麻省理工学院师从M.C.Flemings教授任博士后研究员(1988-1991)。是较早回国创业的留学生之一。曾获教育部“优秀留学生”称号。

 

    公司专业从事光电晶体材料的生长、定向、切割、研磨、抛光、镀膜等,拥有成套先进加工设备和工艺。公司员工大都具有10年以上晶体生长、定向、切割、研磨、抛光等丰富而专业的加工经验,公司率先在行业内成立了MgAl2O4,LaAlO3, SrTiO3等十多种氧化物基片质量标准。拥有先进而完善的检测手段: 万能工具显微镜、rocking curve摇摆曲线测定仪、X Ray定向仪、AFM原子力显微镜、XRD粉末衍射仪等,加工的产品达到超光滑(小于<5A)、超洁净(1000级超净室检验、100级超净台和100级超净袋封装)、超平(厚度公差最高达3um)。 目前主要产品有高温超导薄膜基片磁性铁电/压电外延薄膜基片半导体基片金属单晶☆/多晶基片;溅射靶材(包括近50余种陶瓷靶材、单晶靶材、金属靶材和合金靶材等)以及各种粉料、包装盒等。晶体基片从A~Z达上百种,规格型号上千种,是目前全球最大的能批量生产单晶基片的厂家之一;产品从原材料采购、生产制作、包装检验,每一步都严格控制,确保品质。从而保证了产品质量优、价位低、交货迅速。

 

     为满足客户需求,公司从01年开始推出材料实验室成套设备,包括“混料-压料-烧料-分析料”(混料机、压片机、箱式炉、真空管式炉和小型X射线衍射仪)以及“定向-切割-研磨-抛光”(X射线定向仪、低速外圆锯、金刚石线切割机、802自动抛光机和1502自动抛光机等)。在过去的一里年又新增添了成套新型能源材料制备相关设备产品,其中包括“混料-烧料-分析-涂层-成型-封装-测试”(球磨机、高温高压炉、材料分析仪、涂层机、轧机、切片机、封装机、电池分析仪)。公司自主研发生产可提供上百款产品不同规格尺寸、温度、高温高压及超快速升温产品其中包括:箱式炉、气氛炉、管式炉、井式炉、RTP快速升温炉、高温高压炉及电池研发相关等实验室设备,设计独特、人性化,性能优异,质量可靠,性价比高,环保节能、返修率低,广泛应用于材料、物理、化学、冶金、灰化、齿科、新型能源研发等领域,受到客户极端好评,同时,由于我们产品的优良性能,科晶的设备更是远销美国,欧洲,日本等许多国家,令挑剔的外国客商也称赞不已。

 

     为了更好的服务客户,我公司设有材料制备体验中心、电池研发制备体验中心及材料检测中心,可对外提供晶体材料生长、切磨抛、样品检测等相关服务,欢迎客户带样品来我公司实验室进行试加工,以方便客户了解我们产品的性能;同时我公司的专业技术人员也可以提供技术建议与方案,使客户能够了解买到最适合的加工工艺及设备;另外,我公司还提供完善的售后服务,您在购买产品后遇到疑难问题时,我们将全力为您排忧解难。  

 

     科晶公司成立十三年来,我们正以实际行动努力将自己打造成国内晶体材料及材料制备相关设备领域的第一品牌。我们有强大的销售团队,售后服务团队及不断开拓新型市场的市场团队,完善的实验中心。相信不久的将来,科晶的品牌同样会在国际市场上成为专业与杰出性价比的代名词。

 

     美丽的科学岛期待您的光临,科晶期待您的光临。


售后服务
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安徽省合肥市蜀山区科学院路10号
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