一直以来，Helios NanoLab 都综合采用了 FEI 的最佳电子和离子光学系统、配件和软件，能够为尖端纳米量级研究提供强大的解决方案。对于从事纳米技术前沿研究的科学家，Helios NanoLab 能让他们拓展研究边界，为材料研究开辟新的天地。

借助极具价值的亚纳米 SEM 成像技术、S/TEM 超薄样本制备能力以及最精确的原型设计功能，科学家能够将 Helios NanoLab 当作理想的研究伴侣，为未来的科技进步开发创新的新材料和纳米量级器件。

在材料科学领域，研究人员面临的挑战是持续改善目前制造的材料和设备的质量。为了实现技术进步，在纳米量级了解结构和成分细节至关重要。Helios NanoLab 设计用来以低至亚纳米量级的分辨率提供多尺度、多维度洞察，让研究人员能够观测样本最微小的细节。Helios NanoLab 还可为原子分辨率 S/TEM 成像迅速制备最高质量的样本。此外，如果研究工作包括开发 MEMS 或 NEMS 器件，也可配备 Helios NanoLab 打造全功能原型。

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• Helios PFIB 材料科学应用

Helios NanoLab 是一款极其灵活的平台，既能以极高的效率制备 TEM 样本，又能开展高性能低电压成像以分析高级逻辑和存储器件。Helios Nanolab 具有大型和小型样本室两个配置，效率极高，并且是面向实验室和近生产环境的低每样本成本半导体分析工作流的关键组成部分。

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地质学家和矿藏工程师可以使用 Helios NanoLab 技术对钻屑和微芯开展二维和三维岩石表征。它利用的 DualBeam 技术独具特色，博采 FIB（聚焦离子束）铣削和 SEM（扫描电子显微镜）分析之长。借助自动化序列样本铣削和成像功能，客户可以创建二维序列图像，进而开展三维容积重建。根据这些数据，客户可以在微米至纳米量级别观测和量化孔隙网络等纹理。

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要想在三维背景下了解生物事件，就必须采用专用的成像解决方案，而且这些成像解决方案应能以极高的分辨率呈现极小的细节，从而揭示出复杂网络的超微结构和空间结构。Helios NanoLab 具有卓越的 SEM 性能和可靠、精确的 FIB 切片能力，还配备了高精度压电工作台，堪称小型 DualBeam 平台的极致之选。出色的成像能力，辅以透镜内和柱内检测器提供的尖端高对比度检测技术，能够实现真正卓越的对比度。

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