原子层沉积系统(ALD R-200 Advanced)
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中,就会吸引到企业投资。
技术指标:
衬底尺寸和类型
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50 – 200 mm /单片 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底 粉末与颗粒 多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品 Roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm |
工艺温度 |
50 – 500 °C, 可选更高温度 |
基片传送选件 |
气动升降(手动装载) 预真空室安装磁力操作机械手(Load lock ) 半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现 |
前驱体 |
液态、固态、气态、臭氧源、等离子体(最多4路气体) 6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线) |
重量 |
350kg+ 200 kg |
尺寸( W x H x D)) |
取决于选件 最小146 cm x 146 cm x 84 cm 最大189 cm x 206 cm x 111 cm |
选件 |
集群工具,PICOFLOW™ 扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,超高真空兼容,N2发生器,尾 气处理器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载) |
验收标准 |
标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
应用领域:
客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm(6“和8”)晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料 | 非均匀性(1σ) |
AI2O3 (batch) | 0.13 % |
SiO2 (batch) | 0.77 % |
TiO2 | 0.28 % |
HfO2 | 0.47 % |
ZnO | 0.94 % |
Ta2O5 | 1.0 % |
TiN | 1.10 % |
CeO2 | 1.52 % |
Pt | 3.41 % |
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广州竞赢一直致力于自主研制,同时引进国外先进的电镜制样设备、制样工具和电镜耗材。目前,公司已经成为多家国外知名品牌在中国区的授权代理。公司自主研制的产品主要有微量物证电镜检测系统、辉光放电仪、JY系列镀膜仪、旋转样品台,以及各类定制化电镜附属工具及耗材,并获得几十项相关发明专利。代理的产品主要包括:美国TED PELLA的微波组织处理仪、辉光放电仪、离子溅射仪、裂片仪、凹坑仪等电镜制样设备和电镜耗材,日本DOSAKA的振动切片机等设备。
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