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单面/双面光刻机-EVG610-微流控加工设备

基本信息
产品名称:
单面/双面光刻机-EVG610-微流控加工设备
英文名称:
国产/进口:
进口
产地/品牌:
奥地利EVG
型号:
EVG610
参考报价:
面谈
总点击数:
3715
更新日期:
2025-05-28
产品类别:

性能参数
EVG610单面/双面光刻机

简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。
目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。
EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理最大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在几分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。
 
二、应用范围
EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(MEMS)、硅片凸点、化合物半导体等领域,涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。
 
三、主要特点
  • 支持背面对准光刻和键合对准工艺
  • 自动的微米计控制曝光间距
  • 自动契型补偿系统
  • 优异的全局光强均匀度
  • 免维护单独气浮工作台
  • 最小化的占地面积
  • Windows图形化用户界面
  • 完善的多用户管理(用户权限、界面语言、菜单和工艺控制)
 
四、技术参数

设备咨询电话:
18263262536(微信同号);
0632-5976067
QQ:2633643337;
公司简介
公司自成立以来就一直专注于半导体、微组装和电子装配等领域的设备集成和技术服务;目前公司拥有一支在半导体制造、微组装及电子装配等领域经验丰富的专业技术团队,专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、先进封装(TSV、Fan-out等)、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、声波器件、集成电路、分立器件、微纳等领域。我们不仅能为客户提供整套性能可靠的设备,还能根据客户的实际生产需求制订可行的工艺技术方案

售后服务
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