3D光学干涉轮廓仪 干涉仪
3D光学干涉轮廓仪
NanoX-系列
测量精度高 可操作性强 应用领域广
产品概述
NanoX-2000/3000系列 3D光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量（PSI）、白光垂直扫描干涉测量（VSI）和单色光垂直扫描干涉测量（CSI）等技术的基础上，以其纳米级测量准确度和重复性（稳定性）定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。
产品优势
1.美国硅谷研发的核心技术和系统软件
2.关键硬件采用美国、德国、日本等知名品牌
PI纳米移动平台及控制系统
Nikon干涉物镜
NI信号控制板和Labview64 控制软件
TMC光学隔振台
3.测量准确度重复性达到世界先进水平（中国计量科学研究院证书）
3D光学干涉轮廓仪——应用领域
MEMS结构轮廓形貌、三维尺寸
集成电路光刻测量
集成电路封装BUMP测量
太阳能电池制绒黑硅测量
太阳能电池制绒单晶测量
太阳能电池栅线测量
集成电路激光槽测量
薄膜太阳能技术激光槽测量
太阳能电池激光孔测量
材料表面粗糙度
集成电路晶圆、玻璃、陶瓷、光电材料、柔性材料、
精密机械表面缺陷、表面粗糙度、表面轮廓形貌表征
集成电路晶圆背面减薄粗糙度
IC封装材料表面粗糙度
集成电路晶圆表面缺陷、划痕
3D光学干涉轮廓仪——NanoX-2000/3000系列
n 测量模式 移相干涉（PSI），白光垂直扫描干涉（VSI），单色光垂直扫描干涉（CSI）
n 样 品 台 150mm/200mm/300mm样品台（可选配）
XY平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，倾斜：±5°
可选手动/电动样品台
n CCD相机像素 标配：1280×960
n 视场范围 560×750um（10×物镜）
具体视场范围取决于所配物镜及CCD相机
n 光学系统 同轴照明无限远干涉成像系统
n 光 源 高效LED
n Z方向聚焦 80mm手动聚焦（可选电动聚焦）
n Z方向扫描范围 精密PZT扫描(可选择高精密机械扫描，拓展达10mm )
n 纵向分辨率 ＜0.1nm
n RMS重复性* 0.005nm，1σ
n 台阶测量** 准确度 ≤0.75％；重复性 ≤0.1%，1σ
n 横向分辨率 ≥0.35um（100倍物镜）
n 检测速度 ≤ 35um/sec , 与所选的CCD和扫描模式有关
注脚：性能参数是根据ISO25178-601，25178-604和5463-1，在实验室条件下用标准样品测试
* PSI测量模式，抛光面、境面等光滑表面
** 使用8um/10um可溯源台阶标准块
自1989年创立至今，岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于中国大陆、香港、台湾、新加坡、泰国、马来西亚、菲律宾等地区。
主要产品包括有：晶圆键合设备、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动样品磁强计 (VSM)、粗糙度检测仪、电镜 (SEM)、透镜 (TEM)、原子力显微镜 (AFM)、防振台系统、三维原子探针材料分析仪 (Atom Probe)、激光干涉仪、平面／球面大口径动态激光干涉仪、氦质谱检漏仪、紫外线固化仪、碳纳米管生长设备等。
岱美中国拥有八十多名训练有素的工程师，能够为各地区用户作出快捷、可靠的技术支持和维修服务；为确保他们的专业知识得以更新及并适应新的要求，岱美定期委派工程师前往海外接受专项技术训练，务求为顾客提供更高质素的售后服务及技术支持。
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