EVG610/620单面/双面光刻机EVG光刻机--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

EVG610/620单面/双面光刻机EVG光刻机

英文名称：

国产/进口：

进口

产地/品牌：

奥地利EVG

型号：

EVG610/620/6200/620

参考报价：

1

销售商：

上海螣芯电子科技有限公司

总点击数：

18276

更新日期：

2025-06-02

产品类别：

其它各类仪器

性能参数

EVG610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理0～200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在一分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。

应用范围
EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统（MEMS、）硅片凸点、芯片级封装以及化合物半导体等，涵盖了微电子领域微米或亚微米级线条的芯片的光刻应用。

特点

1. 大大的降低使用者的总体拥有成本；
2. 支持背面对准光刻和键合对准工艺
3. 自动的微米计控制曝光间距
4. 自动契型补偿系统
5. 优异的全局光强均匀度
6. 免维护单独气浮工作台
7. 小的占地面积
8. Windows图形化用户界面
9. 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）

四、技术参数

衬底/晶片尺寸（mm）		小片--200mm，150mm*150mm，0.1-10mm 厚度
掩膜板最大尺寸		0～9'*9'
物镜间距		8-30mm连续可调
对准方式	上部对准，CCD	±0.5um
	上部对准，目镜	可选
	底部对准	可选
	透过式红外对准	可选
	键合对准	可选
	原位对准校正	可选
工作台	精密微米计	手动
	载片台	真空吸盘式，标配4寸，可扩至8寸
	接触压力	5-80N可调
曝光	方式	接近式，软、硬、真空接触
	分辨率	接触式<0.8um,接近式≥2um
	波长	350-450nm,可选200nm
	光强均匀性	≤2%
	汞灯	350W，500W
纳米压印光刻	硬压头	可选
纳米压印光刻	软压头	可选

公司简介

上海螣芯电子科技有限公司
公司网址：www.tengxin-ch.com
联系方式：howie Lou 13122976482
螣芯电子科技有限公司主要为半导体、微组装领域的客户提供设备集成和技术服务。目前公司拥有在半导体制造、微组装领域经验丰富的专业技术团队，主要服务于：
半导体工艺：磁控溅射/电子束蒸发/PECVD/光刻/ICP/RIE/晶圆键合机/涂胶/显影/去胶设备
半导体检测：晶圆AOI/AFM/台阶仪/三维光学轮廓仪/扫描电镜/薄膜应力设备/光刻胶厚度测试仪设备
封装工艺：粘片/引线键合/平行封焊/共晶烧结炉/等离子清洗设备
封装检测：x光机/推拉力测试仪/氦检漏仪/AOI设备
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