Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管CLV200
基本信息
产品名称：
Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管CLV200
英文名称：
Centrotherm-CLV200
国产/进口：
进口
产地/品牌：
德国
型号：
Centrotherm-CLV200
参考报价：
2 000 000
销售商：
总点击数：
493
更新日期：
2025-05-21
产品类别：
性能参数
Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管CLV200,科研专属
CLV200 小批晕生产用垂直炉管
I 适用于砫衬底的半导体集成电路的生产
centrotherm C LV 200 是一个独立的小批量晶圆 生产设备，能实现各项热处理工艺，适用于少量生产及 研发。
cent rot herm 工艺反应 腔体及加热系统有着独特的设计， zui高升温至 11 00 摄氏度。由于一炉尺寸较小（一批至多 50 片晶圆）， CLV 200 炉管能提供 非常灵活的常压及低压工艺，降低顾客研发费用。
cent rot herm 的设计在高效， 低耗上非常出色， 同时也具备了生产各种半导体器件的工艺灵活性。
常压工艺退火
氧化
扩散LPCVD PECVD
Zui高温度可达 11 00° C
净化间占用面积小 [1.6 m叮
售 批量生产 100 mm 至200 mm 晶圆售 一批最高可处理 50 片晶圆
售 全自动 cassette -to-cassette 传片
CLV200 小批晕生产用垂直炉管
I 适用于砫衬底的半导体集成电路的生产
centrotherm C LV 200 是一个独立的小批量晶圆 生产设备，能实现各项热处理工艺，适用于少量生产及 研发。
cent rot herm 工艺反应 腔体及加热系统有着独特的设计， zui高升温至 11 00 摄氏度。由于一炉尺寸较小（一批至多 50 片晶圆）， CLV 200 炉管能提供 非常灵活的常压及低压工艺，降低顾客研发费用。
cent rot herm 的设计在高效， 低耗上非常出色， 同时也具备了生产各种半导体器件的工艺灵活性。
常压工艺退火
氧化
扩散LPCVD PECVD
Zui高温度可达 11 00° C
净化间占用面积小 [1.6 m叮
售 批量生产 100 mm 至200 mm 晶圆售 一批最高可处理 50 片晶圆
售 全自动 cassette -to-cassette 传片
公司简介
上海银雀科技成立于 1998 年，成立以来一直专注于半导体工艺设备、微纳米加工平台等领域的设备集成供应和技术服务。MEMS、3D 封装、化合物半导体、微波器件、功率器件等众多领域。目前公司已经与众多微电子、半导体设备行业的国际知名企业建立了良好的合作关系；EVG（光刻、键合）、Bruker（微纳检测）、TESCAN（扫描电镜） 是其中几家重要的合作伙伴。
售后服务
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资料下载
暂无
联系方式
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详细地址：
上海市嘉定工业区叶城路
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qq：
1255610068
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联系电话：
0632-5976067
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