Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150
基本信息
产品名称：
Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150
英文名称：
c.RAPID 150/RTP 150
国产/进口：
进口
产地/品牌：
德国
型号：
c.RAPID 150/RTP 150
参考报价：
2 000 000
销售商：
总点击数：
1329
更新日期：
2025-06-03
产品类别：
性能参数
Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150
Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150
一、产品简介
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。
此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。
成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款最佳的手动RTP设备。
二、典型应用
退火：一般退火、接触层（Contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火
硅化
氧化
掺杂活化
三、产品特性
可在常压或者真空（控压）下工作
高度灵活性：适用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘
升温速率约150 K/s
出色的温度均匀性
精确的环境控制
高的设备可靠性
可以并排安装
Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150
一、产品简介
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。
此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。
成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款最佳的手动RTP设备。
二、典型应用
退火：一般退火、接触层（Contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火
硅化
氧化
掺杂活化
三、产品特性
可在常压或者真空（控压）下工作
高度灵活性：适用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘
升温速率约150 K/s
出色的温度均匀性
精确的环境控制
高的设备可靠性
可以并排安装
公司简介
上海银雀科技成立于 1998 年，成立以来一直专注于半导体工艺设备、微纳米加工平台等领域的设备集成供应和技术服务。MEMS、3D 封装、化合物半导体、微波器件、功率器件等众多领域。目前公司已经与众多微电子、半导体设备行业的国际知名企业建立了良好的合作关系；EVG（光刻、键合）、Bruker（微纳检测）、TESCAN（扫描电镜） 是其中几家重要的合作伙伴。
售后服务
相关视频
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资料下载
暂无
联系方式
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详细地址：
上海市嘉定工业区叶城路
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qq：
1255610068
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联系电话：
0632-5976067
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