纳米压印机/WLO工艺、微透镜压印设备--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

纳米压印机/WLO工艺、微透镜压印设备

英文名称：

NIL，nanoimprint

国产/进口：

国产

产地/品牌：

中国/天仁微纳

型号：

GL8 MLA

参考报价：

面谈

销售商：

青岛天仁微纳科技有限责任公司

总点击数：

2129

更新日期：

2021-08-06

产品类别：

其它各类仪器

性能参数

设备介绍
GL8 MLA是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的高精度紫外纳米压印设备，可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。
该设备支持从晶圆级母模具表面自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。内置的点胶系统、专利的APC（主动模具基底平行控制）技术、以及自动脱模功能都保证了大面积晶圆级光学生产的精度、均匀性（TTV）与良率。同时，内置的模具基底对准系统还兼容晶圆级对准堆叠工艺（WLS-Wafer Level Stacking）。
GL8/12 MLA纳米压印设备适用于DOE、匀光片（Diffuser）、微透镜阵列、菲涅尔透镜等产品的量产。

主要功能

●经过量产验证的200mm晶圆级光学生产（WLO）设备
●GermanLitho专利APC（主动间隙控制），确保大面积晶圆压印厚度均匀性
●设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本
●内置自动点胶功能
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料
●标配设备内部洁净环境与除静电装置
●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括标准示范WLO等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平

相关参数

兼容基底尺寸	50mm-200mm
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
纳米压印技术	APC主动平行控制技术，适合大面积WLO、WLS等工艺
压印精度	优于20纳米*
结构深宽比	优于10比1*
TTV控制	微米级精度（200mm晶圆）
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）
设备内部环境控制	标配，外部环境Class 1000，内部环境可达Class 100
自动压印	支持
自动脱模	支持
自动工作模具复制	支持
模具基底对位功能	选配

联系人：王经理
联系电话：18612023280（微信同号）

公司简介

青岛天仁微纳科技有限责任公司成立于2015年，是世界领先的纳米压印设备和解决方案提供商。公司的核心竞争力是为客户提供纳米压印整体解决方案。产品与服务涵盖纳米压印相关的设备、模具、材料、工艺以及生产咨询服务。我们致力于拓展纳米压印技术在创新产品领域的应用，例如发光二极管（LEDs）、微纳机电系统（MEMs/NEMs）、虚拟现实和增强现实光波导（AR Waveguides）、3D传感、生物芯片、显示以及太阳能等。我们的使命是成为世界领先的创新公司，并利用卓越的创新力为客户解决高附加值生产难题，帮助客户实现创新技术到产品的转化。

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