纳米压印光刻胶mr-NIL210
基本信息
产品名称：
纳米压印光刻胶mr-NIL210
英文名称：
国产/进口：
进口
产地/品牌：
德国Micro resist
型号：
mr-NIL210
参考报价：
销售商：
总点击数：
1493
更新日期：
2022-05-16
产品类别：
性能参数
mr-NIL210 有机可光固化的NIL抗蚀剂，具有出色的干法刻蚀特性。它具有出色的固化和纳米压印性能，特别适用于使用软印模材料（例如PDMS）的软NIL。
特征：
1）在空气中（存在氧气）也具有出色的固化性能
2）对各种基材（如硅，石英或铝）具有出色的干法刻蚀稳定性
3）纯有机抗蚀剂，固化后可通过氧等离子体去除残留物
应用领域
1）蚀刻掩模，用于图案转印工艺（干法和湿法蚀刻）
2）纳米结构的制造
3）LED，光子晶体
4）图案蓝宝石衬底（PSS）
5）微电子学
6）有机电子产品（OLED，OPV，OTFT）
处理步骤
旋涂 3000 rpm 持续30 s
预烤 60°C持续180 s
烙印温度 室内温度
压印压力 > 100毫巴
辐射强度 mr-NIL210-100nm：100 mW cm -2
mr-NIL210-200nm：50 mW cm -2
mr-NIL210-500nm：50 mW cm -2
可根据要求提供定制的膜厚，最大2 µm
特征：
1）在空气中（存在氧气）也具有出色的固化性能
2）对各种基材（如硅，石英或铝）具有出色的干法刻蚀稳定性
3）纯有机抗蚀剂，固化后可通过氧等离子体去除残留物
应用领域
1）蚀刻掩模，用于图案转印工艺（干法和湿法蚀刻）
2）纳米结构的制造
3）LED，光子晶体
4）图案蓝宝石衬底（PSS）
5）微电子学
6）有机电子产品（OLED，OPV，OTFT）
处理步骤
旋涂 3000 rpm 持续30 s
预烤 60°C持续180 s
烙印温度 室内温度
压印压力 > 100毫巴
辐射强度 mr-NIL210-100nm：100 mW cm -2
mr-NIL210-200nm：50 mW cm -2
mr-NIL210-500nm：50 mW cm -2
可根据要求提供定制的膜厚，最大2 µm
公司简介
武汉市洪山区莱博兹科学仪器经营部成立于2020年09月22日，注册地位于武汉市洪山区珞珈山大厦主楼15层1506室，法定代表人为高珍珍。经营范围包括网上销售：教学仪器仪表、五金产品、金属结构产品、办公用品、计算机及辅助设备、实验室化学试剂（不含有毒有害易燃易爆危险品）、实验室用品、塑料制品、实验室耗材；教学仪器仪表技术咨询服务。（涉及许可经营项目，应取得相关部门许可后方可经营）
售后服务
相关视频
暂无
资料下载
暂无
联系方式
| 单位名称： |
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详细地址：
湖北省武汉市洪山区珞珈山大厦主楼15层1506室
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qq：
3488598979
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联系电话：
18221354817
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| Email： |
