MicroResist负性光刻胶ma-N 1400 ma-N 400
基本信息
产品名称：
MicroResist负性光刻胶ma-N 1400 ma-N 400
英文名称：
国产/进口：
进口
产地/品牌：
德国MicroResist
型号：
ma-N 1405 ma-N 1410
参考报价：
销售商：
总点击数：
1691
更新日期：
2022-05-16
产品类别：
性能参数
宽带或i线曝光 非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；优异地利用PVD和lift-off加工进行图案转移能力；优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性）；光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影；
特 征
1）可调图案轮廓：垂直于底切 6）配套ma-D332显影液
2）抗蚀剂图案的热稳定性好 7）剥离工艺用面罩
3）高耐干湿蚀刻性 8）半导体和金属蚀刻掩膜
4）碱性水显影 9）离子注入掩膜
5）容易移除
特 征
1）可调图案轮廓：垂直于底切 6）配套ma-D332显影液
2）抗蚀剂图案的热稳定性好 7）剥离工艺用面罩
3）高耐干湿蚀刻性 8）半导体和金属蚀刻掩膜
4）碱性水显影 9）离子注入掩膜
5）容易移除
公司简介
武汉市洪山区莱博兹科学仪器经营部成立于2020年09月22日，注册地位于武汉市洪山区珞珈山大厦主楼15层1506室，法定代表人为高珍珍。经营范围包括网上销售：教学仪器仪表、五金产品、金属结构产品、办公用品、计算机及辅助设备、实验室化学试剂（不含有毒有害易燃易爆危险品）、实验室用品、塑料制品、实验室耗材；教学仪器仪表技术咨询服务。（涉及许可经营项目，应取得相关部门许可后方可经营）
售后服务
相关视频
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资料下载
暂无
联系方式
| 单位名称： |
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详细地址：
湖北省武汉市洪山区珞珈山大厦主楼15层1506室
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qq：
3488598979
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联系电话：
18221354817
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| Email： |
