SU-8光刻胶
基本信息
性能参数
MicroChem环氧树脂抗蚀剂由化学放大的环氧基负性抗蚀剂组成，它们具有高度功能性，光学透明性和
可接近UV（365nm）辐射的可成像。固化膜或微结构是对溶剂非常抵扣的，酸和碱以及具有优异的热稳
定性和机械稳定性，使其非常适合制造永久性结构，如像素墙，流体通道和喷嘴，微阵列和间隔物。
材料属性：
材料属性：
SU-8 2000永久环氧树脂
SU-8 2000化学放大，i线抗蚀剂非常适合制造永久性器件结构。 这些负色调，环氧基抗蚀剂表现出优
异的耐化学性和低的杨氏模量，使其成为制造微/纳米结构的理想选择，如悬臂，膜和微通道。
材料的使用：
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PDMS模具制造
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结构部件，如微流体通道，显示像素阵列，墙壁和介电层
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干蚀刻掩膜
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快速成型
材料属性：
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旋涂薄膜从< 1µm＞75µM
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耐高温和耐化学性好
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光学透明
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兼容i-Line成像设备
SU-8负色光刻胶
SU-8是一种高对比度，环氧基光致抗蚀剂，专为微加工和其他微电子应用而设计，其中需要厚的化学
和热稳定图像。 膜的暴露和随后的交联部分变得不溶于液体显影剂。 SU-8在360nm以上具有非常高
的光学透明度，这使得它非常适用于在非常厚的膜中垂直侧壁附近成像。 SU-8最适合于成像，固化
和放置的永久性应用。
材料的使用：
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MEMS器件
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PDMS成型
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喷墨喷嘴
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微流体
材料属性：
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具有近垂直侧壁的高纵横比成像
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近紫外（350-400nm）处理
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膜厚为2〜200μm，单层旋涂法
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高超的耐化学性和耐温性
SU-8 3000
SU-8 3000已被配制用于改进的粘合性和降低的涂层应力。它被用于需要高结合强度和改进的微结构
制造柔性的地方。 结果，大大提高了与基板的粘合性。
材料的使用：
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波导
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微流体
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邮票
材料属性：
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改善附着力
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降低涂层应力
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垂直侧壁
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单层涂膜厚度大于100μm
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优异的耐干蚀刻电阻
公司简介
迈可诺技术有限公司是一家致力于光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，在中国大陆设有内地营销服务中心，专业经销欧美日韩著名品牌实验室光电半导体化工仪器设备，零附件，试剂耗材，对中国国内广大客户提供全面的产品咨询和技术销售服务。
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