掩膜光刻机
基本信息
产品名称：
掩膜光刻机
英文名称：
国产/进口：
国产
产地/品牌：
北京
型号：
MPT
参考报价：
销售商：
总点击数：
686
更新日期：
2021-06-02
产品类别：
性能参数
1、光刻机组成：高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。
2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐
3.半开放系统可配合用户进行定制需求设计开发
4.支持2-6寸及碎片
5.CCD及显微镜对准系统
6.支持文件格式：PNG,GDSII等
7.采用现代光刻工艺中应用最为广泛的接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。
8.工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台（XY）、掩模样片相对运动台（XY）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。
9.应用领域：微电子,微光电,微流控,传感器,新材料,器件制备等。
2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐
3.半开放系统可配合用户进行定制需求设计开发
4.支持2-6寸及碎片
5.CCD及显微镜对准系统
6.支持文件格式：PNG,GDSII等
7.采用现代光刻工艺中应用最为广泛的接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。
8.工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台（XY）、掩模样片相对运动台（XY）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。
9.应用领域：微电子,微光电,微流控,传感器,新材料,器件制备等。
公司简介
北京硅科智能技术有限公司成立于2010年，拥有一支从事此领域多年技术积淀的专业技术队伍，是专门致力于芯片分析测试领域精密设备研发、制造、销售一体的专业的高科技公司。
以国际级芯片测试专用设备制造商的产品为标准线，并做好专业和适应性的研发，使之更加的适合国内芯片研发、生产企业，科研院所及设计公司等市场的需求。主要产品有：4～12英寸多款手动探针台、4～12英寸全自动探针台、半自动光刻机等相关设备及配件，在国内同行业处于领先地位。公司拥有专业的、完整的产业结构及配套能力，可为客户提供从研发、生产、测试技术解决方案的一条龙专业服务。产品覆盖企业、科研院所、高校等，得到了客户的认可和信赖。
拥有多年的自主研发经验的科研人员队伍，具有持续研发升级产品的能力，为许多客户成功解决芯片测试以及相关技术难题。拥有经验丰富的售后团队，可为客户提供完善周到的服务。
我们承诺，将始终做好沟通、设计、制造、售后服务等一系列的工作，为特殊客户提供专业的、优质的技术支持。
售后服务
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资料下载
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