OPTM 系列显微分光膜厚仪
OPTM 系列显微分光膜厚仪使用显微光谱法在微小区域内通过绝对反射率进行测量，可进行高精度膜厚度/光学常数分析。
可通过非破坏性和非接触方式测量涂膜的厚度，例如各种膜、晶片、光学材料和多层膜。 测量时间上，能达到1秒/点的高速测量，并且搭载了即使是初次使用的用户，也可容易出分析光学常数的软件。
● 非接触、非破坏式，量测头可自由集成在客户系统内
● 初学者也能轻松解析建模的初学者解析模式
● 高精度、高再现性量测紫外到近红外波段内的绝对反射率，可分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率、k：消光系数）
● 单点对焦加量测在1秒内完成
● 显微分光下广范围的光学系统（紫外 ~ 近红外）
● 独立测试头对应各种inline定制化需求
● 最小对应spot约3μm
● 独家专利可针对超薄膜解析nk
量测项目
●绝对反射率分析
●多层膜解析（50层）
●光学常数（n：折射率、k：消光系数）
膜或者玻璃等透明基板样品，受基板内部反射的影响，无法正确测量。OPTM系列使用物镜，可以物理去除内部反射，即使是透明基板也可以实现高精度测量。此外，对具有光学异向性的膜或SiC等样品，也可完全不受其影响，单独测量上面的膜。
（专利编号 第 5172203 号）
应用范围
● 半导体、复合半导体：硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、介电常数材料
● FPD：LCD、TFT、OLED（有机EL）
● 资料储存：DVD、磁头薄膜、磁性材料
● 光学材料：滤光片、抗反射膜
● 平面显示器：液晶显示器、薄膜晶体管、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它：建筑用材料、胶水、DLC等
规格式样
（自动XY平台型）
| OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
|---|---|---|---|
| 波长范围 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
| 膜厚范围 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
| 测定时间 | 1秒 / 1点以内 | ||
| 光径大小 | 10μm (最小约3μm) | ||
| 感光元件 | CCD | InGaAs | |
| 光源规格 | 氘灯+卤素灯 | 卤素灯 | |
| 尺寸 | 556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自动XY平台型的主体部分) | ||
| 重量 | 66kg（自动XY平台型的主体部分） | ||
OPTM 选型
自动XY平台型
固定框架型
嵌入头型
波长与膜厚范围
选型表
| 波长范围 | 自动XY平台型 | 固定框架型 | 嵌入头型 |
| 230 ~ 800nm | OPTM-A1 | OPTM-F1 | OPTM-H1 |
| 360 ~ 1,100nm | OPTM-A2 | OPTM-F2 | OPTM-H2 |
| 900 ~ 1,600nm | OPTM-A3 | OPTM-F3 | OPTM-H3 |
物镜
| 类型 | 倍率 | 测量光斑 | 视野范围 |
| 反射对物型 | 10x lens | Φ 20μm | Φ 800μm |
| 20x lens | Φ 10μm | Φ 400μm | |
| 40x lens | Φ 5μm | Φ 200μm | |
| 可视折射型 | 5x lens | Φ 40μm | Φ 1,600μm |
量测案例
半导体行业 – SiO2、SiN膜厚测定案例
半导体工艺中，SiO2用作绝缘膜，而SiN用作比SiO2更高介电常数的绝缘膜，或是用作CMP去除SiO2时的阻断保护，之后SiN也被去除。绝缘膜的性能像这样被使用时，为了精确的工艺控制，有必要测量这些膜厚度。
FPD行业 – 彩色光阻膜厚测定
彩色滤光片薄膜的制程中，一般将彩色光阻涂布在整个玻璃表面，通过光刻进行曝光显影留下需要的图案。RGB三色依次完成此工序。
彩色光阻的厚度不恒定是导致RGB图案变形、彩色滤光片颜色偏差的原因，因此对彩色光阻的膜厚管理非常重要。
FPD行业 – 用倾斜模式解析ITO构造
ITO膜是液晶面板等使用的透明电极材料，制膜后需经过退火处理(热处理)提升导电性和透光性。此时，氧状态和结晶性发生变化，使得膜厚产生阶段性的倾斜变化。在光学上不能看作是构成均一的单层膜。
对这样的ITO用倾斜模式，由上部界面和下部界面的nk值，对倾斜程度进行测量。
半导体行业 – 使用界面系数测定粗糙基板上的膜厚
如果基板表面非镜面且粗糙度大，则由于散射，测量光降低且测量的反射率低于实际值。
通过使用界面系数，因为考虑到了基板表面上的反射率的降低，可以测量出基板上薄膜的膜厚值。
DLC涂层行业 – 各种用途DLC涂层厚度的测量
DLC(类金刚石)涂层由于其高硬度、低摩擦系数、耐磨性、电绝缘性、高阻隔性、表面改性以及与其他材料的亲和性等特征，被广泛用于各种用途。
采用显微光学系统，可以测量有形状的样品。此外，监视器一边确认检查测量位置一边进行测量的方式，可以用于分析异常原因。
