高纯钌靶材 贵金属溅射靶材
基本信息
产品名称：
高纯钌靶材 贵金属溅射靶材
英文名称：
国产/进口：
国产
产地/品牌：
北京/金源新材
型号：
φ76.2mm
参考报价：
18000
销售商：
总点击数：
181
更新日期：
2022-08-29
产品类别：
性能参数
钌溅射靶材是由高纯度钌金属组成的灰色靶。熔点2334° C ，密度12.37，热膨胀 6.4 µm /（m·K）。钌溅射靶材有各种形式，纯度，尺寸和价格。
钌靶材制备工艺流程
备料 - 烧结 - 退火 - 轧制 - 冲压 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 检验 - 包装
钌靶材制备方法
将粒度≤325目的钌粉冷压成型，冷压压力为250～350MPa，得到钌坯；将所述钌坯进行抽真空至0.008～0.12Pa后以10～20℃/min升温至790～820℃，保温30～50min后，再以5～10℃/min升温至第一温度加压，加压压力为50～70MPa；继续升温至第二温度，保温120～180min；第一温度为1000～1200℃，第二温度为1200～1350℃；最后以5～8℃/min降温至1000～1100℃，保温55～65min，得到钌溅射靶材。
钌靶材产品优势
耐化学腐蚀、耐摔性、超耐磨、耐高温、防静电、防火性
钌溅射靶材的应用
钌溅射靶材用于在基板上生产纯钌薄膜，其在微芯片中显示出令人鼓舞的性能。
公司简介
北京金源新材科技有限公司（Beijing Jinyuan Advanced Materials Technology Co.,Ltd.）坐落于中关村科技园区，是一家专注服务于新材料行业的高新技术企业。公司在新材料行业技术先进，通过与科研院所的联合研发和广泛的国际合作，公司为各科研院所、企业、高校等提供国际领先、专业优质的溅射靶材、镀膜材料、高纯材料、粉体材料、稀土材料以及蒸发源材料等产品。产品广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜、熔炼、电子信息、半导体集成电路、平板显示、记录介质、工件表面涂层等领域。
售后服务
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联系方式
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