微纳加工|细胞微阵列化图案化|微流控芯片
微纳结构芯片加工|细胞微阵列化|细胞图案化|微流控芯片
细胞微阵列化(或称为细胞图案化)‚也就是将所研究的细胞约束在限定的空间位置上‚它在许多方面有着重要的潜在应用:
(1)药物开发‚利用细胞微阵列可以大大降低药物开发的成本‚并且更为准确地预测结果;
(2)细胞传感器‚细胞的微阵列化技术是细胞传感器上用于细胞固定的一个重要手段;
(3)组织工程学‚例如干细胞生长成不同的细胞系很大程度上取决于细胞的形状‚这表明通过控制细胞生长微环境的表面工程是研究功能化细胞的一种手段;
(4)细胞基础生物学‚在分子生物学基础研究中‚实现细胞在基底表面上粘附与铺展的规约或控制的技术‚是对细胞与基底、细胞与细胞相互作用进行深入研究的关键。
细胞阵列化一般是利用化学修饰的方法在基底上形成细胞粘附和不粘附的区域‚实际设计中往往还需针对不同细胞种类‚做出相应的表面拓扑形貌微加工或是物理化学特性修饰。目前常用的细胞微阵列化技术包括:
(1)光刻法(2)软光刻法(3)墨水喷印技术(4)模板辅助图案技术(5)激光诱导直写细胞技术(6)光固定和光学构建微阵列技术以及(7)电化学图案化技术等。
应用类别 | 设备名称 | 设备型号 | 工艺参数 |
镀膜 | 低压力化学气相沉积(LPCVD) | HORIS L6471-1 | 可沉积SIN,TEOS,poly等薄
膜 1-50片/炉 |
热氧化 | 炉管热氧化 | ||
退火 | 快速退火炉RTP | Annealsys AS-One 150 | 最高温度到1500℃, 升温速率
最大200℃/s |
FIB加工 | 聚焦离子束 FIB | Thermo Fisher Scios 2 HiVac | |
TEM样品制备 | |||
SEM形貌观测 | 场发射环境扫描电镜ESEM | Thermo Fisher Quattro S | |
SEM能谱分析 | |||
电子束蒸发镀膜-金属 | 电子束蒸发 | FU-20PEB-950 | 蒸镀金属薄膜、可做lift-off工艺镀膜、8寸基片向下兼容 |
电子束蒸发镀膜-介质 | 电子束蒸发 | FU-12PEB | 蒸镀介质薄膜一炉可镀10片四寸基片 |
磁控溅射镀膜-金属 | 磁控溅射系统 | FSE-BSLS-RD-6inch | 溅射金属薄膜、6寸基片 |
原子层沉积 | 等离子体增强原子层沉积系统 | ICPALD-S200 | 当前以Al2O3为主 |
DLC镀膜 | 类金刚石薄膜化学沉积系统 | CNT-DLC-CL200 | |
干法刻蚀 | 干法刻蚀机 | 北方华创 | 硅Bosch和超低温刻蚀、SiO2与石英深刻蚀,8英以下 |
IBE刻蚀 | 离子束刻蚀系统(IBE) | AE4 | 三维结构材料刻蚀,刻蚀陡直度优于85度,刻蚀精度10nm |
等离子体去胶 | 微波等离子体去胶机 | Alpha Plasma | |
紫外光刻 | 紫外光刻机 | SUSS MA6BA6GEN4 | 对准精度:±0.5um,分辨率600nm |
电镀 | 电镀机 | WPS-200MT | 镀Cu、镀Au、镀镍/镍合金 |
临界干燥 | 超临界点干燥仪 | Automegasamdri-915B | |
划片 | 切割机划片机 | Disco D323 | |
晶圆键合 | 晶圆键合机 | SUSS MicroTec SB6Gen2 | 阳极键合 |
AFM测试 | 高分辨原子力显微镜 | Oxford Cypher ES | |
原子力显微镜 | Park Systems NX20 | ||
电子束光刻 | 电子束光刻机 | Elionix ELS-F125G8 | 不含匀胶等费用,材料费根据用胶类型另计 |
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