MicroResist紫外固化光刻胶--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

MicroResist紫外固化光刻胶

英文名称：

国产/进口：

进口

产地/品牌：

德国MicroResist

型号：

OrmoComp® Ormo

参考报价：

销售商：

上海意果科技有限公司

总点击数：

8801

更新日期：

2025-06-01

产品类别：

生物芯片处理

性能参数

负性光刻胶

用于紫外线（掩模对准器、激光）、深紫外线和电子束光刻

正性光刻胶

用于紫外线、激光光刻和灰度图案化

混合聚合物

用于微光学和纳米光学应用

纳米压印光刻胶

用于热和紫外线纳米压印光刻

喷墨材料

用于喷墨打印的功能材料

辅助设备

高性能材料供应商

用于创新光刻胶、聚合物、光聚合物

和辅助设备

产品概述

• 消费者 • 传感器 • 生命科学 • 显示器 • 光子学 • 光电子学

白皮书

用于 UV（掩模对准器、激光）/ DUV 和电子束光刻的光刻胶

• 适用于宽带、i 线、深 UV、电子束曝光或 405 nm 的激光直写

• 剥离光刻胶具有可调图案轮廓，高温稳定性高达 160 °C

• 在一个旋涂步骤中为不同膜厚提供各种粘度

产品系列材料类别兼容工艺

首选应用

独特功能

ma-N 1400 芳香族双叠氮化物/酚醛清漆，非 CAR

UV 掩模对准器、激光和步进光刻

单层剥离、蚀刻掩模、用于电镀水碱性显影的模具，热稳定性高达 110°C，易于去除

ma-N 400 芳香族双叠氮化物/

novolak，非 CAR

UV 掩模对准器，激光

和步进光刻

单层剥离，

蚀刻掩模，用于

电镀

水-碱性

显影的模具，热稳定性高达 160°C，

易于去除

ma-N 2400 芳香族双叠氮化物/

novolak，非 CAR

电子束，深紫外

光刻

蚀刻掩模水-碱性

显影，坚固且

易于处理，易于

去除

mr-DWL 环氧树脂，CAR UV 掩模对准器，激光

和步进光刻，

2PP

用于电镀的模具，

复制母版，蚀刻掩模

感光度高达

410 nm，用于图案转移工艺和

永久应用

EpoCore 和 EpoClad 环氧树脂，CAR UV 光刻聚合物基

波导，模具用于

电镀、复制母版、蚀刻

掩模

对可见光高度透明、高

热稳定性、用于

图案转移工艺

和永久

应用

mr-EBL 6000 环氧树脂、CAR 电子束、

UV 光刻

用于图案转移工艺和永久

应用的蚀刻掩模

负性光刻胶

白皮书

用于

UV 光刻的正性光刻胶（掩模对准器、激光、

灰度曝光）

• 一次旋涂步骤即可获得 0.1 μm – 60 μm

膜厚的各种粘度

• 适用于宽带、g 线、h 线

或 i 线曝光和

350…450 nm 的激光直写

• 无需曝光后烘烤

• 易于去除

产品系列材料类别兼容

工艺

首选

应用

独特功能

ma-P 1200G DNQ/ novolak 灰度光刻、

UV 光刻、

激光干涉

光刻

UV 成型、电镀、

干法蚀刻

• 微光学、MEMS

和 MOEMS、晶圆级

光学、微流体中的 2.5D 结构

1-60 μm 膜厚

旋涂、

水碱性

显影、

易于去除、

用于图案转移

ma-1200 DNQ/ 诺伏拉克 UV 光刻干法蚀刻、离子

注入、电镀、

图案回流

+ UV 成型

•LED、微系统、

半导体元件、

微光学

0.3-40 μm 膜厚

通过旋涂、

水碱性

显影、

易于去除、

用于图案转移

ma-P1275HV DNQ/ 诺伏拉克 UV 光刻电镀、干法蚀刻、离子

注入、

图案回流 +

UV 成型

•微系统、微光学

10-50 μm 膜厚

通过旋涂、

水碱性

显影、

易于去除、

用于图案转移

mr-P 1200 LIL DNQ/ novolak 激光干涉

光刻，

紫外光刻

干法蚀刻，电镀

•层状网格，

VSL 网格

0.1-0.5 μm 膜厚

旋涂，

水碱性

显影，

易于去除，

用于图案转移

正性光刻胶

白皮书

用于

微光学应用的紫外固化混合聚合物。

• 出色的透明度

• 出色的机械性能

• 高化学和物理稳定性

• 出色的复制保真度

• 即用型解决方案

产品系列材料类别兼容工艺

首选应用

独特功能

OrmoComp® 含硅丙烯酸酯官能化前体聚合物

UV 成型、UV 光刻、2PP、3D 打印

微和纳米光学设备（例如微透镜、DOE、光栅）

极高的温度和气候稳定性、PDMS 兼容性

OrmoStamp® 含硅丙烯酸酯官能化前体聚合物

UV 成型工作印章制造

固有释放特性、出色的图案保真度，低至 100nm 以下的特征

OrmoClear®FX 含硅丙烯酸酯官能化前体聚合物

UV 成型、UV 光刻、2PP

微和纳米光学设备（例如微透镜、 DOE、光栅）、

微流体

高温和

气候稳定性、PDMS

兼容性

OrmoClear® 系列含硅丙烯酸酯官能化

前体

聚合物

UV 成型、UV 光刻、

2P

公司简介

我们提供世界著名品牌的百万种优质产品:

部分仪器>

三维细胞组织培养系统
微囊发生器
微量注射器、助吸器
转定子式均质器、碾槌式匀质器、混涡混合器、旋转器、细胞破碎器、振荡器、搅拌器
加热套

吸入暴露系统/气溶胶发生器

售后服务

所售仪器类商品，保修一年，终身维修。