晶圆清洗设备 SWC-3000兆声晶圆清洗机
基本信息
产品名称：
晶圆清洗设备 SWC-3000兆声晶圆清洗机
英文名称：
国产/进口：
进口
产地/品牌：
美国 那诺-马斯特
型号：
SWC-3000
参考报价：
销售商：
总点击数：
3321
更新日期：
2025-06-10
产品类别：
性能参数
SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机概述：
兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的z大化支持z理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。
SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机应用：
- 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
- Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
- CMP处理后的晶圆片清洗
- 晶圆框架上的切粒芯片清洗
- 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
- 带保护膜的分划版清洗
- 掩模版空白部位或接触部位清洗
- X射线及极紫外掩模版清洗
- 光学镜头清洗
- ITO涂覆的显示面板清洗
- 兆声辅助的剥离工艺
特点：
- 台式系统
- 无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干
- 支持12”直径的圆片或9”x9”方片
- 微处理机自动控制
- IR红外灯
选配项：
- 掩模版或晶圆片夹具
- PVA软毛刷清洗
- 化学试剂清洗(CDU)
- 氮气离子发生器
公司简介
那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月，是服务大中华区(包含中国大陆，香港，台湾和澳门)的客户，同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室，提供销售和售后技术服务。 那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。 自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD，用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD，溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅)，热蒸发和电子束蒸发，离子束刻蚀和反应离子刻蚀，原子层沉积，兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商，已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。 我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员，使得公司拥有一流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商，我们的目标是提供高品质的服务并始终维持最高水平的集成度。
售后服务
品质：提供优质的产品和服务，同时通过持续的改进保证对品质的个人所有权。我们选择最好的人选参与到我们的工作，员工均具有丰富的领域经验。
承诺：致力于客户的成功。并且伴随按时、按规格、控制预算成本。开发、成长和繁荣以保持竞争水平，并能够以最好的方式服务我们的客户和我们的社区。
创新：我们识别、开发并部署最前沿的技术、员工发展计划和过程改进工具。我们认识到创新与效率、产能和品质之间的密切关系。
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