匀胶机/旋涂仪_进口Spin Coater_无需真空--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

匀胶机/旋涂仪_进口Spin Coater_无需真空

英文名称：

Spin Coater

国产/进口：

进口

产地/品牌：

英国 Ossila

型号：

L2001A3-U1

参考报价：

详情来电咨询：张经理 17317363700

销售商：

那诺-马斯特中国有限公司

总点击数：

2316

更新日期：

2025-07-08

产品类别：

其它各类仪器

性能参数

Ossila 旋涂机经过精心设计，可提高薄膜质量，无需真空泵和氮气管路，可以生产出零基材翘曲的均匀涂层。它简单明了的操作和设计使旋涂快速、简单、便宜，而不会影响功能。

Ossila 旋涂机具有直观的控制软件，无需任何先决条件设备，是一款真正的即插即用设备。我们的旋涂机结构紧凑，在实验室工作台上占用的空间非常小，可以轻松地在手套箱内使用。

为什么使用无真空设计？

市场上的许多旋涂机在旋涂时使用真空泵来夹持基材。Ossila 旋涂机采用创新的卡盘设计，不需要真空。基材通过切入聚丙烯卡盘的凹槽固定到位，从而将多余的涂层材料排出。

无真空旋涂机使用创新的卡盘在旋丝循环中将基板固定到位

薄基材可能会被真空吸盘向内翘曲，从而影响涂层的均匀性。真空作用力对沉积在多孔基材（如陶瓷）顶部的溶液的影响也会导致不均匀性。这会降低设备的质量和性能。无真空卡盘通过保持基材平坦且不受损坏来确保均匀的薄膜分布，即使它们是柔性基材。

标准旋涂机上的真空密封环导致的基板翘曲（左）无真空卡盘可实现均匀的薄膜分布（右）

没有真空管路，Ossila 旋涂机可以在任何地方设置一个电源插座。由于其易于设置和紧凑的尺寸，可以在实验室工作台、通风橱或手套箱中旋转涂层，所有这些都在同一天完成。

大多数旋涂机还承担着真空泵的隐性成本，而真空泵的隐性成本通常不包括在整个系统价格中。真空泵容易损坏，导致昂贵的维修和延误。这主要是由于过量的溶剂被吸入真空管路，损坏了内部组件。使用免真空 Ossila 旋涂机可以降低短期和长期成本，它为您提供开始旋涂所需的一切。

产品特点：

旋转速度范围大：旋转速度范围为 120 至 10,000 rpm，涵盖一系列不同的旋涂条件——从慢速干结晶到超薄膜。
易于安装：无需连接真空或氮气管路，只需插入电源即可使用。
智能操作：内置的控制系统允许您拥有最多 10 个独立的用户配置文件 - 每个配置文件能够保存 10 个配方，最多 50 个步骤。
旋涂质量好：内置水平仪和可调节支脚确保了平坦的旋转轴，无真空卡盘可防止薄基材翘曲。这两个因素都使薄膜的均匀性更好，设备性能也更好。
安全性好：旋涂机由 24 V DC 电源供电，因此不需要高电压或具有额外要求的专业电源。防止溶剂和篡改，有一个磁性安全开关，当盖子打开时停止电机。
优化的卡盘设计：Ossila 旋涂机卡盘的设计已经过深入研究和优化。使用流体动力学模拟来跟踪卡盘区域的气流，我们设计了卡盘，以改善基材上的气流，减少溶剂积聚，同时确保在极高转速下的机械稳定性。

技术参数：

	标准旋涂机	高速旋涂机
用户配置文件	10	10
程序	每个用户配置文件上有 10 个程序，每个程序最多 50 个步骤	每个用户配置文件上有 10 个程序，每个程序最多 50 个步骤
速度稳定性	<2% 误差	<0.25% 误差
速度	120 至 6000 RPM	500 至 10,000 RPM
旋转时间	1 – 1000 秒	1 – 3600 秒
电源	DC 24 V 2 A，通过 100–240 V 50/60 Hz 电源适配器	DC 24 V 2 A，通过 100–240 V 50/60 Hz 电源适配器
安全开关	门上的磁性安全开关	门上的磁性安全开关
尺寸（深 x 宽 x 高）	225 毫米 x 170 毫米 x 140 毫米（8.86 英寸 x 6.69 英寸 x 5.51 英寸）	225 毫米 x 170 毫米 x 140 毫米（8.86 英寸 x 6.69 英寸 x 5.51 英寸）
重量	2.9 千克	3.7 千克
材料	聚丙烯碗，钢制外壳，钢化玻璃盖	聚四氟乙烯碗，粉末涂层钢制外壳，钢化玻璃盖

公司简介

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月，是服务大中华区(包含中国大陆，香港，台湾和澳门)的客户，同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室，提供销售和售后技术服务。那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD，用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD，溅射镀膜(反应溅、共溅、组合溅)，热蒸发和电子束蒸发，离子束刻蚀和反应离子刻蚀，原子层沉积，兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商，已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员，使得公司拥有一流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商，我们的目标是提供高品质的服务并始终维持最高水平的集成度。

售后服务

品质：提供优质的产品和服务，同时通过持续的改进保证对品质的个人所有权。我们选择最好的人选参与到我们的工作，员工均具有丰富的领域经验。承诺：致力于客户的成功。并且伴随按时、按规格、控制预算成本。开发、成长和繁荣以保持竞争水平，并能够以最好的方式服务我们的客户和我们的社区。创新：我们识别、开发并部署最前沿的技术、员工发展计划和过程改进工具。我们认识到创新与效率、产能和品质之间的密切关系。