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光学轮廓仪 Zeta-20 多模式三维光学轮廓仪

基本信息
产品名称:
光学轮廓仪 Zeta-20 多模式三维光学轮廓仪
英文名称:
Optical Profiler
国产/进口:
进口
产地/品牌:
美国 KLA
型号:
Zeta-20
参考报价:
总点击数:
1446
更新日期:
2025-05-30
产品类别:

性能参数

产品描述

Zeta-20台式光学轮廓仪是一款非接触式3D显微镜及表面形貌测量系统。该 3D 光学量测系统由已获得专利的 ZDot 技术及多模式光学组件提供支持,可支持各种样品测量:透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙纹理,以及从纳米到厘米范围的台阶高度。

Zeta-20台式光学轮廓仪集六种不同的光学量测技术于一身,是一款可灵活配置且易于使用的系统。ZDot测量模式同时收集高分辨率的3D扫描信息和样品表面真彩色图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量法、诺马斯基光干涉对比显微法和剪切干涉测量法,膜厚测量包含使用ZDot模式测量和光谱反射的测量方法。Zeta-20 也是一款高端显微镜,可用于抽样检查或缺陷的自动检测。Zeta-20通过提供全面的台阶高度、粗糙度及薄膜厚度测量以及缺陷检测功能来支持研发 (R&D) 和生产环境。

 

 

 

 

 

Zeta-20台式光学轮廓仪特征优势

  • 配合ZDot及多模式光学组件,光学轮廓仪可以容易地实现各种各样的应用

  • 用于抽样检查和缺陷检测的高质量显微镜

  • ZDot: 同时收集高分辨率的3D扫描扫描信息和样品表面真彩色图像

  • ZXI:采用z方向高分辨率的广域测量白光干涉仪 ZIC:亚纳米级粗糙度表面的定量3D数据的干涉对比

  • ZIC:图像对比度增强,可实现亚纳米级粗糙度表面的定量分析

  • ZSI:z方向高分辨率

  • 图像的剪切干涉测量法

  • ZFT:通过集成式宽频反射测量法测量薄膜厚度和反射率

  • AOI:自动光学检测,可量化样品缺陷

  • 生产能力:具有多点量测和图形识别功能的全自动测量

 

 

 

Zeta-20台式光学轮廓仪应用功能

 



                                                        

    • 台阶高度:从纳米级到毫米级的3D 台阶高度

    • 表面:光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波纹度测试

    • 翘曲:2D或3D翘曲

    • 应力:2D 或3D 薄膜应力

    • 薄膜厚度:透明薄膜厚度由 30nm 至 100µm 不等

    • 缺陷检测:捕获大于 1µm 的缺陷

    • 缺陷表征:KLARF文件可用于寻找缺陷,以确定划痕缺陷位置,测量缺陷3D表面形貌

 

 

 

Zeta-20台式光学轮廓仪应用领域

  • 太阳能:光伏太阳能电池

  • 半导体和化合物半导体

  • 半导体WLCSP(晶圆级芯片封装)

  • 半导体FOWLP(扇出晶圆级封装)

  • PCB(印刷电路板)和柔性印刷电路板

  • MEMS:微机电系统

  • 医疗器械和微流体器件

  • 数据存储

  • 大学、研究实验室和研究所

 

 

Zeta-20台式光学轮廓仪应用案例

肖特玻璃-表面粗糙度

        可用来测试玻璃等透明表面及不透明表面的形貌和表面粗糙度

 

太阳能电池–不同反射率表面形貌测量

        轻松获得复杂差异化反射率样品的表面形貌

 

MEMS器件–台阶高度和粗糙度

    小尺寸样品nm级台阶精度,大尺寸样品的亚微米台阶精度

镜头-完整的表面轮廓

       图像拼接功能,可获得大面积样品的完整表面轮廓

 

高分子薄膜-膜厚测量

       可用于PI和PR薄膜的厚度测量,并可生成整片晶圆上的膜厚mapping

 

 

 

蓝宝石-图案化晶片表面缺陷

        可对特定缺陷进行三维轮廓扫描并进行相关测量,并对晶圆表面缺陷按尺寸、亮度、长宽比等进行分布统计并生成mapping

 

 

公司简介
那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月,是服务大中华区(包含中国大陆,香港,台湾和澳门)的客户,同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室,提供销售和售后技术服务。 那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国,该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司,是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。 自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备,正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD,用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD,溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅),热蒸发和电子束蒸发,离子束刻蚀和反应离子刻蚀,原子层沉积,兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商,已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。 我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员,使得公司拥有一流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商,我们的目标是提供高品质的服务并始终维持最高水平的集成度。

售后服务
品质:提供优质的产品和服务,同时通过持续的改进保证对品质的个人所有权。我们选择最好的人选参与到我们的工作,员工均具有丰富的领域经验。 承诺:致力于客户的成功。并且伴随按时、按规格、控制预算成本。开发、成长和繁荣以保持竞争水平,并能够以最好的方式服务我们的客户和我们的社区。 创新:我们识别、开发并部署最前沿的技术、员工发展计划和过程改进工具。我们认识到创新与效率、产能和品质之间的密切关系。
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