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无掩膜激光直写纳米光刻机

基本信息
产品名称:
无掩膜激光直写纳米光刻机
英文名称:
Maskless laser direct write lithography
国产/进口:
进口
产地/品牌:
斯诺文尼亚/miDALIX
型号:
DALI-A/B
参考报价:
总点击数:
1012
更新日期:
2025-07-22
产品类别:

性能参数

DALI是由Aresis、CENN  Nano  center  和  LPKF  联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机,是一款性能稳定,操作简单,对环境要求低,界面友好,零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻,可以实现优于80nm平滑的边缘结构,100-150nm最小结构间距,最高400nm套刻精度,是实验室级微纳加工与器件制作不二选择。DALI凭借优异的性能,目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。

先进的AOD技术,定位分辨率优于0.1nm

  • A. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘

  • 1660753138558376.jpg

  • B. 可高分辨调整特征结构间的距离

  • 1660753321812584.jpg

  • C. 可以实现亚微米级精细结构的构建

  • 1660753355940409.jpg

 

主要特点:

# 最小特征结构小于1μm

# 针对I-line光刻胶进行优化(SU-8,AZ,……)

# 超快与超高精度定位,光斑定位分辨率<1nm

# 可构建高深宽比结构(可达10:1)

# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度

# 100-150nm最小结构间距

# 最高400nm套刻精度

# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建

# 具备非平表面直写能力

公司简介
臻义科学仪器(广州)有限公司致力于高端科研设备的设备研发与技术推广。公司立足于科研第一线,专业为科研人员提供真正好用仪器设备。同时公司专注于与国内优秀的科研人员合作研发,让科研成果变为科学设备,实现科研与商业的互通。

  我们秉承贴近科研,服务科研,不断创新的理念,用真诚与专业,让科研老师仪器用得省心,用得放心,成果轻松转化为商品,推动不断创新


售后服务
我方保证所供货物是全新的,整机无污染,无侵权行为、无任何缺陷隐患,在中国境内可依常规安全合法使用。整套系统所有硬件提供一年免费保修并为所有软件提供免费保修升级服务。在质保期内出现非人为因素造成仪器设备出现故障需要维修时,按照维修时间延长,我公司免费提供非人为因素损坏的零备件、并免费更换和维修;质保期内出现产品更换时,质保期从更换产品之日起重新计算。
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