托托科技 科研版无掩模光刻机
基本信息
产品名称：
托托科技 科研版无掩模光刻机
英文名称：
国产/进口：
国产
产地/品牌：
TuoTuo
型号：
ACA系列科研版无掩模光刻机
参考报价：
销售商：
总点击数：
513
更新日期：
2025-07-15
产品类别：
性能参数
光刻机又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路，将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上，从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。
根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩模版细分为有掩模和无掩模两种。无掩模光刻机是一种不需要使用传统掩模版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩模光刻机不需要掩模版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。
科研版无掩模光刻机-Academic
高灵活性、高精度、无掩模的优势，非常适用于科学研究。
ACA系列是科研版的无掩模版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩模光刻，极致的灵活性使其成为科学研究的不二之选。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。
ACA无掩模光刻机亮点：
特征尺寸0.8μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩模光刻机
ACA Pro无掩模光刻机亮点：
特征尺寸0.4μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩模光刻机
ACA Master无掩模光刻机亮点：
特征尺寸0.4μm
6英寸光刻面积
扫描光刻/步进光刻 可切换
无掩模光刻机
根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩模版细分为有掩模和无掩模两种。无掩模光刻机是一种不需要使用传统掩模版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩模光刻机不需要掩模版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。
科研版无掩模光刻机-Academic
高灵活性、高精度、无掩模的优势，非常适用于科学研究。
ACA系列是科研版的无掩模版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩模光刻，极致的灵活性使其成为科学研究的不二之选。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。
ACA无掩模光刻机亮点：
特征尺寸0.8μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩模光刻机
ACA Pro无掩模光刻机亮点：
特征尺寸0.4μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩模光刻机
ACA Master无掩模光刻机亮点：
特征尺寸0.4μm
6英寸光刻面积
扫描光刻/步进光刻 可切换
无掩模光刻机
公司简介
自2017年创立以来，托托科技始终深耕于高端精密光学仪器的研发和制造。公司凭借在微纳光学加工及检测领域的深厚积淀，打造了覆盖无掩模光刻、高精度3D光刻、磁学检测、光电检测及3D显微镜五大核心产品线的先进技术矩阵，构建了设计、研发、制造、销售及咨询服务的全链条生态体系，以卓越的综合实力持续为行业提供高品质的产品和服务。
依托前沿技术与细致化设计，托托科技通过持续的技术创新，积极推动光电子技术从实验室走向产业化落地，产品广泛应用于半导体、生物医疗、清洁能源、消费电子、精密制造等关键领域。托托科技致力于为各行各业高质量发展提供高精度、高效率的光学解决方案，助力产业升级与突破。
依托前沿技术与细致化设计，托托科技通过持续的技术创新，积极推动光电子技术从实验室走向产业化落地，产品广泛应用于半导体、生物医疗、清洁能源、消费电子、精密制造等关键领域。托托科技致力于为各行各业高质量发展提供高精度、高效率的光学解决方案，助力产业升级与突破。
售后服务
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资料下载
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联系方式
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