托托科技 科研版无掩膜光刻机
基本信息
产品名称：
托托科技 科研版无掩膜光刻机
英文名称：
国产/进口：
国产
产地/品牌：
TuoTuo
型号：
ACA系列科研版无掩膜光刻机
参考报价：
销售商：
总点击数：
327
更新日期：
2024-11-12
产品类别：
性能参数
光刻机又名掩膜对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路，将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上，从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。
根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩膜版细分为有掩膜和无掩膜两种。无掩膜光刻机是一种不需要使用传统掩膜版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩膜光刻机不需要掩膜版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。
科研版无掩膜光刻机-Academic
高灵活性、高精度、无掩膜的优势，非常适用于科学研究。
ACA系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻，极致的灵活性使其成为科学研究的不二之选。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。
ACA无掩膜光刻机亮点：
特征尺寸0.8μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩膜光刻机
ACA Pro无掩膜光刻机亮点：
特征尺寸0.4μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩膜光刻机
ACA Master无掩膜光刻机亮点：
特征尺寸0.4μm
6英寸光刻面积
扫描光刻/步进光刻 可切换
无掩膜光刻机
根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩膜版细分为有掩膜和无掩膜两种。无掩膜光刻机是一种不需要使用传统掩膜版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩膜光刻机不需要掩膜版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。
科研版无掩膜光刻机-Academic
高灵活性、高精度、无掩膜的优势，非常适用于科学研究。
ACA系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻，极致的灵活性使其成为科学研究的不二之选。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。
ACA无掩膜光刻机亮点：
特征尺寸0.8μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩膜光刻机
ACA Pro无掩膜光刻机亮点：
特征尺寸0.4μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩膜光刻机
ACA Master无掩膜光刻机亮点：
特征尺寸0.4μm
6英寸光刻面积
扫描光刻/步进光刻 可切换
无掩膜光刻机
公司简介
托托科技是一家是专注于光学显微加工及检测的光学设备制造厂商。目前公司拥有五个核心产品线 (A)无掩膜版光刻设备 (B)磁学产品 (C)多模态光电显微镜 (D)超高精度3D打印 (E)3D先进显微镜 已经形成了集设计、研发、制造、销售及客户咨询服务为一体的高科技企业，致力于给客户提供全方位的技术支持，以高端技术和细致设计造就卓越品质，以耐心服务和企业担当赢得良好口碑 公司旗下产品的品牌名称为TuoTuo，拥有中国及新加坡两个研发中心，其中托托科技(苏州)是中国区业务的运营主体，TuoTuo Technology(Singapore) Pte.Ltd是国际业务的运营主体。
售后服务
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