仪器主要特点：
1. 最新和谐部件系统，无误差修正光学(即是增强光度、衬比度，均匀性及解象度)。
2. 独特V型光学路径设计，使用最少玻璃/空气界面，保证最高光通量及最大衬比度。
3. 可选10×(22mm视场)，16×及25×目镜，物镜由1.6×至100×, 6孔物镜转盘,可用长工作距离物镜,玻片修正物镜,相差及浮雕衬比LMC光学。
4. 独特光学原理作不同衬比技巧：
a) 荧光
1. 保证在视场上有最佳荧光效果(最高光度及转换荧光滤片时无影像偏移)。
2. 可调中孔径光栏及视场光栏(一般无孔径光栏调节荧光)。
3. 4位置荧光滤块转盘(一般是3位置滑杆片，或4位置滑杆片，不容易转换)。
4. 人工学设计右偏灯座(容易调节灯光在中位，节省空间)有插槽可放2个滤光片，附件镜室可加双灯室。
5. 广泛选择荧光灯室：50W和100W汞灯，75W和150W氙灯。
6. UV透光率在335mm下大于68%，100W汞灯室采用6镜片聚光镜片，提供所有荧光及紫外最高光亮度(一般只有4镜组集光器)。
b) 相差
1. 相差物镜采用独特P30涂层，保证最佳相差衬比及最少晕轮。
2. 所有镜座内藏勃氏透镜，调节相差用(一般只有外置对焦透镜)。
c) 微分干涉
1. 在70mm工作距离聚光镜；高至40×物镜可作微分干涉(一般只可支持到20×或用25mm聚光镜作40×微分干涉)。
2. 物镜可共用棱镜(一般要每个物镜各加一个棱镜)。
3. 最新D1棱镜作最佳3D效果影像。
4. 最新旋钮作最佳调节及固定。
5. 附件检偏器插槽在目镜筒下，在荧光及微分干涉技术同时使用下保证荧光有最高亮度。
d) 浮雕衬比LMC
1. 最新物镜作调幅衬比，10×、20×、40×及63×倍率。
2. 使用S40/0.50聚光镜。
e) 暗场
1. 所有聚光镜可使用暗场技术(一般无暗场)。

附装有NIS-Elements显微镜图像分析软件。

显微镜和图像分析软件简易操作：
1. 打开软件电源，如需拍摄荧光图像，打开荧光高压汞灯电源。高压汞灯30分钟内不准重新启动。
2. 打开电脑，若不能正常启动，按Ctrl+Alt+Del重启。
3. 打开NIS-Elements软件，选择和设置合适的参数。
4. 打开显微镜，观察样品。35mm dish可直接放在显微镜平台上，若超过50mm的dish，先小心拆除显微镜平台上载物架。
5. 拍照时，点击软件上的Live，进行实时预览，并调节显微镜聚焦。
6. 拉出显微镜右下方的光路拉杆。然后拍照。若拍荧光，先关闭普通光源。进行紫外观察，需正确选择合适的荧光滤片。
7. 目镜下获得满意图像后，点击视窗内的Capture图标，开始拍摄。
8. 拍摄完毕，依次关闭荧光、图像分析系统、显微镜、电脑等电源。
9. 开机和完毕时，请登记室组、姓名、使用内容、开机时间，关机时间和仪器状态。

使用注意事项：
1. 使用高倍物镜，应先降低物镜，然后用低倍物镜先调焦，再换高倍，以避免镜头接触样品台。物镜光圈开足，物镜和聚光镜的镜孔光圈基本一致，达到最佳效果。粗调焦垂直范围9毫米。
2. 相差：用0.30 S70聚光镜，5X至40X物镜。 刻有PH2最低倍物镜聚焦样品，如聚焦有困难，先调小光圈或用染色的样品转换圆盘位置到H(明视野)。可能错误：样品太厚，太薄，染色太深，封片剂和样品的折射指数相同。 载玻片太厚无法聚焦。圆盘光圈颠倒。孔径光圈没打开，光圈没对正中心。
3. 暗视野：用0.53 S23聚光镜 5X物镜，物镜孔径0.40。用0.90 S1, DF 10X物镜，物镜孔径0.75。如用内置可变光圈缩小孔径，可以用较高孔径的物镜。
4. 荧光显微镜：选适合样品光谱的激发光和发射光的滤光镜，放进光路。打开物镜的可变光圈。置放大转盘位置1X。关闭照明光，打开关联光路。如背景太红，使用BG38滤片，拉杆置于中档。
5. 解决故障：机械——光环或聚光镜高低失调。 电路——灯泡不工作，没有电源——检查所有插头，总开关，外部电源，保险丝。
6. 换电源上的保险丝：关掉显微镜和总电源，切断电源与显微镜连接线。取出坏保险丝，换新的IEC127-2或UL198G保险丝。
7. 换12V/100W卤素灯泡：关掉显微镜电源，切断电源与显微镜连接线。3 mm螺丝刀旋开灯箱盖，取出坏灯泡，尽快地把新灯泡插入灯座插座里，旋紧灯箱盖。