快速退火炉RTP Solaris 100

快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛最大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA)，（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。
美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%，处理的最大尺寸可以达到200mm，最高温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，做多可支持4~6路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。
基于PID处理控制器的Solaris GUI可以存储程序，每套程序可以支持高达100个步骤的设定，带USB2.0的接口。包含Solaris GUI 软件，与微软Windows操作系统兼容。通过该软件，通过链接电脑可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录。
 
技术规格：
- 最高温度：1200摄氏度；
- 升温速率：150摄氏度/秒；
- 温控均匀性：±2.5℃设定温度；
- 加热方式：红外卤素灯，顶部及底部区域加热；
- 处理时间：0.1秒至无限时间；
- 灯管数量及功率：13支，
- 腔体冷却：风冷方式；
- 衬底冷却：氮气吹扫；
- 工艺气路：MFC控制，最多6路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)；

型号	Solaris 100	Solaris 150	Solaris 150UV	Solaris 200	Solaris Eclipse
处理最大样品尺寸	100mm	150mm	150mm	200mm	200mm
最高温度(℃)	室温~1200℃/s	室温~1200℃/s	室温~1200℃/s	室温~1200℃/s	室温~1200℃/s
工艺气体	1~4路	1~6路	1~6路	1~6路
红外卤素灯	13支	21支		28支
红外卤素灯冷却方式	风冷	风冷	风冷	风冷	风冷
温度控制	PID数控	PID数控	PID数控	PID数控	PID数控
温度精度	±2℃	±2℃	±2℃	±2℃	±2℃
热电偶	K型热电偶	K型热电偶	K型热电偶	K型热电偶	K型热电偶
臭氧功能			有，蚀刻速率> 25-50A /min
机器外观	台式机	台式机	台式机	台式机	台式机

 
应用领域：
快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
硅化 (Silicidation);
扩散 (Diffusion);
化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
离子注入后退火 (Implant Annealing);
电极合金化 (Contact Alloying);
晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);