纳米压印胶--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

纳米压印胶

英文名称：

Nano Imprinting Glue

国产/进口：

进口

产地/品牌：

MicroResist

型号：

mr-NIL210、MR-I T85系

参考报价：

销售商：

迈可诺技术有限公司

总点击数：

923

更新日期：

2022-04-07

产品类别：

其他生物试剂

性能参数

mr-NIL210 有机可光固化的NIL抗蚀剂，具有出色的干法刻蚀特性。它具有出色的固化和纳米压印性能，特别适用于使用软印模材料（例如PDMS）的软NIL。

特征：

1）在空气中（存在氧气）也具有出色的固化性能

2）对各种基材（如硅，石英或铝）具有出色的干法刻蚀稳定性

3）纯有机抗蚀剂，固化后可通过氧等离子体去除残留物

应用领域

1）蚀刻掩模，用于图案转印工艺（干法和湿法蚀刻）

2）纳米结构的制造

3）LED，光子晶体

4）图案蓝宝石衬底（PSS）

5）微电子学

6）有机电子产品（OLED，OPV，OTFT）

处理步骤

旋涂 3000 rpm 持续30 s

预烤 60°C持续180 s

烙印温度室内温度

压印压力 > 100毫巴

辐射强度 mr-NIL210-100nm：100 mW cm -2

mr-NIL210-200nm：50 mW cm -2

mr-NIL210-500nm：50 mW cm -2

可根据要求提供定制的膜厚，最大2 µm

MR-I T85系列

热塑性NIL抵抗剂基于非极性环烯烃共聚物（TOPAS）的T-NIL抗蚀剂（Tg = 85°C）

特征：

1）用于制造微流体或芯片实验室设备的薄膜厚度可能高达5 µm

2）100％有机热塑性塑料→可以使用纯氧等离子体进行干法蚀刻和剥离

3）在紫外线/可见光范围内具有最高的光学透明度，并具有针对不同溶剂，酸和碱的独特化学稳定性

应用领域

芯片实验室系统

1）生物应用 4）波导

2）微流控 5）单层和多层系统

3）微光学元件 6）用于图案转印过程的掩模

处理步骤

玻璃化温度 85°摄氏度

烙印温度 130 – 150°C

压印压力 5 – 20巴

适用于各种膜厚（3000 rpm）*

mr-I T85-0.3 300 nm

mr-I T85-1.0 1.0 µm

mr-I T85-5.0 5.0 µm

*可根据要求提供定制的膜厚

公司简介

迈可诺技术有限公司是一家致力于光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，在中国大陆设有内地营销服务中心，专业经销欧美日韩著名品牌实验室光电半导体化工仪器设备，零附件，试剂耗材，对中国国内广大客户提供全面的产品咨询和技术销售服务。

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