加热板
基本信息
性能参数
介绍：
M-HP 200热板用于烘烤和回火加热晶圆片或基板。该热板适用于直径最大为8英寸的晶圆片或最大6英寸 x6英寸的衬底。内置模块可轻松用于湿式工作台。工艺参数（温度，加热时间）可以随时更改。 热板温度可在20°C和250C之间调节。可在1到999秒之间设置处理时间。
产品参数：
主营产品：
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统，湿站系统
Wabash/Carver自动压片机
M-HP 200热板用于烘烤和回火加热晶圆片或基板。该热板适用于直径最大为8英寸的晶圆片或最大6英寸 x6英寸的衬底。内置模块可轻松用于湿式工作台。工艺参数（温度，加热时间）可以随时更改。 热板温度可在20°C和250C之间调节。可在1到999秒之间设置处理时间。
产品参数：
- 型号：M-HP 200 Hotplate热板
- 处理尺寸：直径最大8英寸晶圆片或最大6 英寸x6英寸基板
- 温度范围：20°C至250°C可调
- 功率：600瓦
- 加热时间：从1到9999秒
- 热板表面安全盖材质：不锈钢
- 不带盖的热板尺寸：约350mm x 350mm x 200mm
- 控制器的尺寸：约135mm x 145mm x 95mm
- 台式柜的尺寸：约 460mm x 360mm x 325mm
- 重量：约200磅
主营产品：
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统，湿站系统
Wabash/Carver自动压片机
公司简介
迈可诺技术有限公司是一家致力于光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，在中国大陆设有内地营销服务中心，专业经销欧美日韩著名品牌实验室光电半导体化工仪器设备，零附件，试剂耗材，对中国国内广大客户提供全面的产品咨询和技术销售服务。
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