生物芯片处理

韩国Mask Aligner光刻机L-100

基本信息
产品名称:
韩国Mask Aligner光刻机L-100
英文名称:
国产/进口:
进口
产地/品牌:
韩国Mask Aligner
型号:
L-100
参考报价:
总点击数:
321
更新日期:
2022-04-07
产品类别:

性能参数
光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。L-100专为4英寸晶圆而设计,具有硬接触、软接触和真空接触三种接触方式。对准器有一个365nm的UV LED光源。365nm处的光功率为20mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。

技术参数
类型 PLC手动控制系统 波长 365 nm
掩膜版尺寸 5英寸 紫外光强度 20 ㎽
基片尺寸 4英寸晶圆 紫外线光束均匀度 ≤3 %
分辨率 1 ㎛ 接触模式 真空/硬/软
对准精度 1 ㎛ 显微镜 双CCD变焦显微镜
    选配项 Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA
公司简介

迈可诺技术有限公司是一家致力于光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,在中国大陆设有内地营销服务中心,专业经销欧美日韩著名品牌实验室光电半导体化工仪器设备,零附件,试剂耗材,对中国国内广大客户提供全面的产品咨询和技术销售服务。


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