韩国Mask Aligner光刻机L-100
类型 | PLC手动控制系统 | 波长 | 365 nm |
掩膜版尺寸 | 5英寸 | 紫外光强度 | 20 ㎽ |
基片尺寸 | 4英寸晶圆 | 紫外线光束均匀度 | ≤3 % |
分辨率 | 1 ㎛ | 接触模式 | 真空/硬/软 |
对准精度 | 1 ㎛ | 显微镜 | 双CCD变焦显微镜 |
选配项 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
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