CVD镀膜设备 ICPECVD等离子体化学气相沉积
基本信息
产品名称：
CVD镀膜设备 ICPECVD等离子体化学气相沉积
英文名称：
国产/进口：
进口
产地/品牌：
美国 那诺-马斯特
型号：
NPE-4000（ICPM）
参考报价：
销售商：
总点击数：
3255
更新日期：
2025-10-13
产品类别：
性能参数
NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER ICPECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到z大可达6” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有*气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别激活某些活性组份，这样系统可以覆盖z广的可能性来获得各种沉积参数。
NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统应用：
- 等离子诱导表面改性：就是通常所说的用等离子实现表面改性(如亲水性、疏水性等)
- 等离子清洗：去除有机污染物
- 等离子聚合：对材料表面产生聚合反应
- 沉积二氧化硅、氮化硅、DLC(类金刚石)，以及其它薄膜
- CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长：在需要的位置生长CNT或石墨烯。
NPE-4000（ICPM）特点：
- 立式ICPECVD系统
- 不锈钢或铝制腔体
- 极限真空可达10-7Torr
- ICP离子源
- 高达12”(300mm)直径的样品台
- RF射频偏压样品台
- 水冷样品台
- 可加热到的800 °C样品台
- 加热的气体管路
- 加热的液体传送单元
- 抗腐蚀的涡轮分子泵组
- z大可支持到8MFC
- 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
- 菜单驱动，4级密码访问保护
- 完整的安全联锁
公司简介
那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月，是服务大中华区(包含中国大陆，香港，台湾和澳门)的客户，同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室，提供销售和售后技术服务。 那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。 自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD，用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD，溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅)，热蒸发和电子束蒸发，离子束刻蚀和反应离子刻蚀，原子层沉积，兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商，已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。 我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员，使得公司拥有一流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商，我们的目标是提供高品质的服务并始终维持最高水平的集成度。
售后服务
品质：提供优质的产品和服务，同时通过持续的改进保证对品质的个人所有权。我们选择最好的人选参与到我们的工作，员工均具有丰富的领域经验。
承诺：致力于客户的成功。并且伴随按时、按规格、控制预算成本。开发、成长和繁荣以保持竞争水平，并能够以最好的方式服务我们的客户和我们的社区。
创新：我们识别、开发并部署最前沿的技术、员工发展计划和过程改进工具。我们认识到创新与效率、产能和品质之间的密切关系。
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