台式等离子蚀刻系统--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

台式等离子蚀刻系统

英文名称：

Tabletop Plasma Etching System

国产/进口：

进口

产地/品牌：

GIK台式等离子蚀刻系统

型号：

P-10台式等离子蚀刻系统

参考报价：

25000

销售商：

极科有限公司

总点击数：

2222

更新日期：

2014-05-08

产品类别：

生物芯片处理

性能参数

产品介绍：P-10台式等离子蚀刻系统 / 紧凑型等离子体刻蚀机

配备真空泵的P-10是一款成套台式等离子蚀刻系统，因其可靠的设计、较低的价位，使其成为满足中小企业、医学实验室和研发机构的一款紧凑型等离子蚀刻设备。

P-10台式等离子蚀刻系统具有三个独特的等离子工作模式：
1）反应离子蚀刻（RIE），
2）普通的等离子清洗（Plasma Cleaning）和等离子体刻蚀(Plasma Etching)
3）P-10具有多功能等离子工艺配置，一台具备各向异性（anisotropic）和各向同性(isotropic ）等离子刻蚀处理的系统。并且配有可拆卸的托盘设置。

P-10台式等离子蚀刻系统纵览

全铝合金材质真空舱可以容纳超过1500平方厘米的处理表面积，及配备三层处理托盘支架。内置框架采用了简洁的设计，喷涂工业粉末涂层，以保护等离子处理环境免于污染。

当P-10台式等离子蚀刻系统在反应离子蚀刻（RIE）模式下工作时，专门设计的电极用于定向等离子体处理，即起到垂直向下的蚀刻效果。此种等离子工艺主要是用于蚀刻微孔或清洗化学品无法达到的空间，因为液体的流动往往只限于在这些小的空间。

台式等离子蚀刻系统应用范围包括医疗设备，太阳能电池，印刷电路板（PCB），连接器，MEMS，纳米技术，晶圆级封装，以及许多其他相关的半导体工艺。

P-10台式等离子蚀刻系统特点

采用台式等离子蚀刻系统我们可以提供定制真空舱，电极配置，满足被蚀刻工件或工艺需要的定制平板电极，RIE（反应离子刻蚀）和等离子处理过程的温度控制。等离子清洗提高了任何材料表面处理的均匀性，减少或消除不必要且昂贵的化学试剂废物排放。简单易用，直观的触摸屏界面提供等离子操作界面，控制等离子刻蚀的各个方面，确保等离子工艺的重复性。

P-10台式等离子蚀刻系统技术规格

P-10台式等离子蚀刻系统配置
真空舱体材质：全铝合金
电极设置：3套规格为 23cm X 41cm 电极，每套电极板间隔7.6cm
射频电源：300瓦@100KHz射频电源;
工艺气体控制：单套 O-50cc质量流量控制器
真空监测系统：皮拉尼真空计0-1托
控制器系统：微处理器系统，配备触摸屏界面
真空泵浦系统：8CFM氧气服务真空泵系统，配备油雾分离器

P-10台式等离子蚀刻系统可选配置：
300瓦@13.56MHz射频电源;
真空舱静电屏蔽
工艺温度控制
定制电极配置
RIE（反应离子刻蚀电极）
真空泵氮或CDA吹洗

P-10台式等离子蚀刻系统规格
P-10台式等离子蚀刻系统：43cm X 71cm X 76cm 净重：70公斤
P-10台式等离子蚀刻系统配套真空泵：15cm X 46cm X 23cm 净重：31公斤

P-10台式等离子蚀刻系统设备外部安装要求
电源：380/3/50 Hz
压缩空气：0.55~0.70 MPa，14升/分钟
工艺气体压力：0.1MPa,
系统环境温度：29摄氏度

如果您对GIK台式等离子蚀刻系统感兴趣，请联系我们索取更详尽资料！

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