工业等离子体刻蚀处理系统
基本信息
性能参数
产品介绍：
PM-II工业等离子体刻蚀处理系统
PM-II工业等离子体刻蚀处理系统
PM-II是印刷电路板（PCB）制造商的首选等离子处理系统，等离子体刻蚀处理系统 多年来，我们已改进和完善了在处理印刷电路板（PCB）制造领域中使用等离子处理工艺，并开创了许多新工艺方案。 具备高可重复性、可靠性、系统寿命长，维护成本低等特点。
PK-II 工业等离子处理系统具有两项关键技术专利应用于印刷电路板（PCB）制造。等离子体刻蚀处理系统具有 出色的等离子处理效果，最快的蚀刻率和较短的等离子处理循环周期时间。
PM-II工业等离子体刻蚀处理系统具有绝对技术优势，如独特的结合工艺温度控制和静电屏蔽的配置组合。 该配置协调工作，获得整个印刷电路板（PCB）板面一致、均匀、最可靠的蚀刻率。
工业等离子体刻蚀处理系统纵览
铝制舱体可容纳较大的等离子处理材料体积，我们的标准配置具有最少6或多达24个等离子处理支架，每款支架规格61cm X 46cm。
氧气服务真空泵和增压器配备有两点吹扫系统，尽量减少腐蚀性副产品产品在其中形成，从而延长了使用寿命，同时降低了维护成本。
工业等离子体刻蚀处理系统特点
等离子处理板材，无论大小，PTFE，聚酰胺，软硬结合电路，你会发现所有这些材料均被均匀地蚀刻，等离子处理完毕以备下一个生产工艺步骤使用。
由于等离子是一个绿色环保的工艺，同时也降低了生产费用，消除不受欢迎的，往往昂贵用于化学蚀刻和清洗的化学废物。简单易用，直观的触摸屏界面提供等离子操作界面，控制等离子刻蚀的各个方面，确保等离子工艺的可靠性和重复性。
PM-II工业等离子体刻蚀处理系统能够利用树脂涂覆的铜箔技术在多层PCB板上蚀刻3毫米深微孔。工业等离子体刻蚀处理系统HDD）蚀刻1个毫米的聚酰亚胺窗口。PM-II工业等离子体刻蚀处理系统是一款专为蚀刻盘悬浮液及微孔。 可以在高密度驱动器悬浮液（
PM-II工业等离子体刻蚀处理系统能够利用树脂涂覆的铜箔技术在多层PCB板上蚀刻3毫米深微孔。工业等离子体刻蚀处理系统HDD）蚀刻1个毫米的聚酰亚胺窗口。PM-II工业等离子体刻蚀处理系统是一款专为蚀刻盘悬浮液及微孔。 可以在高密度驱动器悬浮液（
工业等离子体刻蚀处理系统规格
标准工业等离子体刻蚀处理系统特点
等离子处理支架：6、8、12、16、24套水平“支架，每套支架规格61cm X 46cm，间距3.8cm
射频电源：1250~5000瓦@13.56MHz射频电源，自动匹配网络；
真空舱静电屏蔽，促进蚀刻均匀性；
工艺过程温度控制：677摄氏度~1649摄氏度，避免过温循环；
工艺气体控制：2套0-2000 CC /分钟 质量流量控制器 （MFC）；
气压监控：低气压工艺气体机吹扫气体报警器；
真空监测系统：MKS电容式真空计0-10托；
控制器系统：微处理器控制系统/触摸屏界面； 多（最多3阶段）菜单存储功能；
真空泵浦系统：爱德华兹（Edwards）氧气服务真空泵 ，配备爱德华兹Edwards）罗茨式增压器鼓风机； 3微米真空泵油过滤芯，2点自动氮气N2吹扫； 真空泵排气油雾凝聚式过滤器
等离子处理支架：6、8、12、16、24套水平“支架，每套支架规格61cm X 46cm，间距3.8cm
射频电源：1250~5000瓦@13.56MHz射频电源，自动匹配网络；
真空舱静电屏蔽，促进蚀刻均匀性；
工艺过程温度控制：677摄氏度~1649摄氏度，避免过温循环；
工艺气体控制：2套0-2000 CC /分钟 质量流量控制器 （MFC）；
气压监控：低气压工艺气体机吹扫气体报警器；
真空监测系统：MKS电容式真空计0-10托；
控制器系统：微处理器控制系统/触摸屏界面； 多（最多3阶段）菜单存储功能；
真空泵浦系统：爱德华兹（Edwards）氧气服务真空泵 ，配备爱德华兹Edwards）罗茨式增压器鼓风机； 3微米真空泵油过滤芯，2点自动氮气N2吹扫； 真空泵排气油雾凝聚式过滤器
工业等离子体刻蚀处理系统其它可选功能
基于Windows的计算机控制系统/触摸屏接口
数据记录、报告、事件查看和打印
信号灯塔
爱德华兹（Edwards）GV80干式真空泵
MKS真空节气门控制器
多达4套质量流量控制器
工艺控制气体转向矩阵，5路工艺气体输入切换矩阵控制
可控N2(氮气)真空舱吹扫流量
定制真空舱室尺寸和设置
定制电极尺寸和设置
工业等离子体刻蚀处理系统可选配套设备
冷却水再循环闭环
烟气洗涤塔填料床
压缩空气干燥机（真空泵吹扫气体发生器）
基于Windows的计算机控制系统/触摸屏接口
数据记录、报告、事件查看和打印
信号灯塔
爱德华兹（Edwards）GV80干式真空泵
MKS真空节气门控制器
多达4套质量流量控制器
工艺控制气体转向矩阵，5路工艺气体输入切换矩阵控制
可控N2(氮气)真空舱吹扫流量
定制真空舱室尺寸和设置
定制电极尺寸和设置
工业等离子体刻蚀处理系统可选配套设备
冷却水再循环闭环
烟气洗涤塔填料床
压缩空气干燥机（真空泵吹扫气体发生器）
工业等离子体刻蚀处理系统规格
等离子刻蚀系统外部尺寸：218cm X 200cm X 60cm
真空泵外部尺寸： 41cm X 76cm X 43cm
等离子刻蚀系统外部尺寸：218cm X 200cm X 60cm
真空泵外部尺寸： 41cm X 76cm X 43cm
工业等离子体刻蚀处理系统设备外部安装要求
电源：220/1/50
压缩空气:0.55~0.70 MPa，14升/分钟
系统环境温度：29摄氏度
工艺气体：0.17~0.21MPa,
射频电源冷却水源：7.5升/分钟流量
如果您对GIK工业等离子体刻蚀处理感兴趣，请联系我们索取更详尽资料！
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