EM阻剂/电子束抗蚀剂德国富士TOK光刻胶
基本信息
产品名称：
EM阻剂/电子束抗蚀剂德国富士TOK光刻胶
英文名称：
TOK YINGHUA EM Resist(PMMA series & SML series for EBL)
国产/进口：
进口
产地/品牌：
德国美国日本瑞士英国法国
型号：
PMMA tok su-8 fus
参考报价：
电话咨询 135 7249 3227
销售商：
总点击数：
3148
更新日期：
2015-05-25
产品类别：
性能参数
西安绿山半导体科技有限公司主要销售 美国AZ光刻胶 日本富士光刻胶 日本TOK光刻胶 德国Micro光刻胶 德国Allres光刻胶
瑞士SU-8光刻胶 美国Futurrex光刻胶 罗门哈斯光刻胶 英国PMMA光刻胶
提供多种SU-8光刻胶，适用于不同的材料和应用环境。我们提供的光刻胶是配好的成品
西安绿山半导体科技有限公司 主要生产销售平面研磨抛光设备 各种平面研磨抛光盘 金相试验抛光垫 抛光绒布 二氧化硅抛光液 钻石液 多晶钻石粉 金刚石微粉 纳米抛光液 钻石膏 代理美国beck氧化铝抛光粉 销售国际高端高精密研磨设备 研磨抛光材料 日本大明化学氧化铝抛光粉氧化铝球 氧化锆球 东京化研各种油墨 住友氧化铝微球微粉 应化光刻胶 东旭研磨膏 研磨产品 DENKA高端切割蓝膜 浩视三维视频显微镜和桌上型扫描电镜 瑞士多晶钻石液 钻石粉 德国贺利氏金相研磨抛光材料仪器 Engis公司 喜百事高精密研磨抛光产品 美国航天大功率导电银胶 导电银胶 导电油墨 导电浆 金银铜线 扩散材料 红胶 国PTI DMT JIS Microvision品牌进口试验尘粉
1.紫外光刻胶 各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。2. 电子束光刻胶 电子束抗蚀电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。3. 特殊工艺用光刻胶电子束曝光导电层，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。
4. 配套试剂（Process chemicals）显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。负性光刻胶 粘性增强负性光刻胶高级加工负性光刻胶剥离处理用负性光刻胶正性光刻胶 粘性增强正性光刻胶非光刻涂层 平坦化、保护性、粘性涂层旋涂玻璃
旋涂掺杂辅助化学品 边胶清洗剂光刻胶显影剂光刻胶去除剂。
美国进口光刻胶试剂 AZ安智光刻胶 瑞士进口光刻胶 高端科技应用材料仪器与销售 主要用于半导体 LED芯片 ；玻璃 晶体、宝石、硬质合金、磁头、精密元器件、硬盘‘ 金属、 陶瓷 IC 航空航天 造船 军事 ’卫星 飞机 通讯光纤 ‘金相试验切片表面研磨抛光加工领域，耐磨工件表面符合镀领域， 各种行业产品高精密 研磨抛光的最佳理想选择的材料；
公司团队通过严格的ISO9001 /ISO14001和OHSAS18000管理体系为基础，构建合理的运营管理机制,以技术创新为动力，致力于通过向客户提供微米、纳米材料及其应用工艺方案，协助客户提高产品性能和科技含量，进而提高产品附加值并增强市场竞争力，使客户在其相关行业内长期保持创新优势，为客户创造了良好的经济效益。
公司崇奉“诚信、务实、创新、超越”的团队精神，将及时、有效地为客户提供优质的服务
公司简介
西安绿山半导体科技有限公司主要销售美国AZ光刻胶日本富士光刻胶日本TOK光刻胶德国Micro光刻胶德国Allres光刻胶
瑞士SU-8光刻胶美国Futurrex光刻胶罗门哈斯光刻胶
提供多种SU-8光刻胶，适用于不同的材料和应用环境。我们提供的光刻胶是配好的成品
主要生产销售平面研磨抛光设备各种平面研磨抛光盘金相试验抛光垫抛光绒布二氧化硅抛光液钻石液多晶钻石粉金刚石微粉纳米抛光液钻石膏代理美国beck氧化铝抛光粉销售国际高端高精密研磨设备研磨抛光材料日本大明化学氧化铝抛光粉氧化铝球氧化锆球东京化研各种油墨住友氧化铝微球微粉应化光刻胶东旭研磨膏研磨产品DENKA高端切割蓝膜浩视三维视频显微镜和桌上型扫描电镜瑞士多晶钻石液钻石粉德国贺利氏金相研磨抛光材料仪器Engis公司喜百事高精密研磨抛光产品美国航天大功率导电银胶导电银胶导电油墨导电浆金银铜线扩散材料红胶国PTIDMTJISMicrovision品牌进口试验尘粉
1.紫外光刻胶各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长:深紫外(DeepUV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度:光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。2.电子束光刻胶电子束抗蚀电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物，LIGA用胶等。电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。3.特殊工艺用光刻胶电子束曝光导电层，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。
4.配套试剂（Processchemicals）显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。负性光刻胶 粘性增强负性光刻胶高级加工负性光刻胶剥离处理用负性光刻胶正性光刻胶 粘性增强正性光刻胶非光刻涂层 平坦化、保护性、粘性涂层旋涂玻璃
旋涂掺杂辅助化学品 边胶清洗剂光刻胶显影剂光刻胶去除剂。
美国进口光刻胶试剂AZ安智光刻胶瑞士进口光刻胶高端科技应用材料仪器与销售主要用于半导体LED芯片；玻璃晶体、宝石、硬质合金、磁头、精密元器件、硬盘‘金属、陶瓷IC航空航天造船军事’卫星飞机通讯光纤‘金相试验切片表面研磨抛光加工领域，耐磨工件表面符合镀领域，各种行业产品高精密研磨抛光的最佳理想选择的材料；
公司团队通过严格的ISO9001/ISO14001和OHSAS18000管理体系为基础，构建合理的运营管理机制,以技术创新为动力，致力于通过向客户提供微米、纳米材料及其应用工艺方案，协助客户提高产品性能和科技含量，进而提高产品附加值并增强市场竞争力，使客户在其相关行业内长期保持创新优势，为客户创造了良好的经济效益。
公司崇奉“诚信、务实、创新、超越”的团队精神，将及时、有效地为客户提供优质的服务
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提供多种SU-8光刻胶，适用于不同的材料和应用环境。我们提供的光刻胶是配好的成品
主要生产销售平面研磨抛光设备各种平面研磨抛光盘金相试验抛光垫抛光绒布二氧化硅抛光液钻石液多晶钻石粉金刚石微粉纳米抛光液钻石膏代理美国beck氧化铝抛光粉销售国际高端高精密研磨设备研磨抛光材料日本大明化学氧化铝抛光粉氧化铝球氧化锆球东京化研各种油墨住友氧化铝微球微粉应化光刻胶东旭研磨膏研磨产品DENKA高端切割蓝膜浩视三维视频显微镜和桌上型扫描电镜瑞士多晶钻石液钻石粉德国贺利氏金相研磨抛光材料仪器Engis公司喜百事高精密研磨抛光产品美国航天大功率导电银胶导电银胶导电油墨导电浆金银铜线扩散材料红胶国PTIDMTJISMicrovision品牌进口试验尘粉
1.紫外光刻胶各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长:深紫外(DeepUV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度:光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。2.电子束光刻胶电子束抗蚀电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物，LIGA用胶等。电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。3.特殊工艺用光刻胶电子束曝光导电层，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。
4.配套试剂（Processchemicals）显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。负性光刻胶 粘性增强负性光刻胶高级加工负性光刻胶剥离处理用负性光刻胶正性光刻胶 粘性增强正性光刻胶非光刻涂层 平坦化、保护性、粘性涂层旋涂玻璃
旋涂掺杂辅助化学品 边胶清洗剂光刻胶显影剂光刻胶去除剂。
美国进口光刻胶试剂AZ安智光刻胶瑞士进口光刻胶高端科技应用材料仪器与销售主要用于半导体LED芯片；玻璃晶体、宝石、硬质合金、磁头、精密元器件、硬盘‘金属、陶瓷IC航空航天造船军事’卫星飞机通讯光纤‘金相试验切片表面研磨抛光加工领域，耐磨工件表面符合镀领域，各种行业产品高精密研磨抛光的最佳理想选择的材料；
公司团队通过严格的ISO9001/ISO14001和OHSAS18000管理体系为基础，构建合理的运营管理机制,以技术创新为动力，致力于通过向客户提供微米、纳米材料及其应用工艺方案，协助客户提高产品性能和科技含量，进而提高产品附加值并增强市场竞争力，使客户在其相关行业内长期保持创新优势，为客户创造了良好的经济效益。
公司崇奉“诚信、务实、创新、超越”的团队精神，将及时、有效地为客户提供优质的服务
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