生物芯片处理

PVA TePla 等离子去胶机

基本信息
产品名称:
PVA TePla 等离子去胶机
英文名称:
国产/进口:
进口
产地/品牌:
德国/美国
型号:
IoN系列(IoN 40\IoN Wa
参考报价:
面议
总点击数:
4026
更新日期:
2020-11-18
产品类别:

性能参数

德国PVA TePla 等离子去胶机

——德国 PVA TePla 公司 等离子去胶机的领导品牌,40余年等离子去胶机行业经验。

       该系列等离子去胶机外观简洁,系统高度集成化,采用模块化设计,可应用与半导体、生物技术、材料等各个领域。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。

      PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子去胶机为各种不同应用领域提供了最先进的创新解决方案,得到用户的广泛信赖。


规格参数:


2.45GHz风冷微波电源(0~600W/0-1000W可调)/13.56MHz风冷射频电源(0~600W/0~300W/0~1000W可调)

石英/铝/陶瓷腔体,

最多6路工艺气体,高精度不锈钢防腐蚀MFC控制,

1路保护性回填气体,1路驱动气体

兼容8英寸及以下晶圆

PC工控机控制,运行数据实时监控、存储

操作分级权限管理操作,防止误操作

图形化触控屏操作,运行状态实时显示

外形尺寸:775×749×781 mm / 737×1980×1118 mm

重量:134KG/ 350KG


可选配置:

可选配干泵、旋片泵、涡轮泵、罗茨泵

可选配法拉第桶

可选配水冷温控装置(冷却板、液体循环机)

可选配压力控制系统(1%精度真空规、压力控制系统)





应用领域:

去除光刻胶 photo-resist stripping

去除残胶 wafer descum

SU-8灰化 SU-8 ashing

晶圆和衬底的清洁 wafer and substrate cleaning

氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 etching of silicon nitride, pi, etc.

刻蚀钝化层 etching of passivation layers

逆向分析/失效分析中的器件开封  device decapsulation for failure analysis

微量分析中低温材料灰化  low temperature ashing of materials for chemical trace analysis



认证:

CE 认证

EN 61010

EN 61326

SEMI 95

ISO 9001

CISPR 55011

公司简介
•哲勤公司成立于2003年,是一家专业从事真空技术及相关仪器设备研制、开发、生产和贸易为一体的综合性企业。目前,哲勤科技拥有技术人员21人,专业售后服务人员7人,并在北京、上海、广州设有办公室和备品库,可为客户提供专业及时的售前和售后服务。

•目前哲勤科技分为真空、质谱、等离子体三个部门。

•等离子体部门代理PVA TePla公司各种等离子体设备,包括常压等离子体设备、射频等离子体设备、微波等离子体设备。

•真空部门主要为客户提供各种定制化的非标准真空仪器设备及代理销售各种真空泵、低温泵。

•质谱部门主要提供源于原瑞士巴尔采司技术的全系列的四极质谱仪,包括真空残余气体分析仪、高级分析四极质谱仪、小型在线四级质谱仪工业离线和在线四极质谱仪以及实验室用四极质谱仪。

 


售后服务
可对等离子体设备、真空设备、质谱仪提供: 1、24小时电话响应 2、3个工作日到达现场 3、备品备件 4、维护保养 5、设备培训 6、软件更新及远程技术支持 7、产品升级 8、系统重装 9、工艺研发
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