电子显微镜

美国BRUKER布鲁克原子力显微镜AFM

基本信息
产品名称:
美国BRUKER布鲁克原子力显微镜AFM
英文名称:
国产/进口:
国产
产地/品牌:
美国
型号:
Edge/ MULTIMODE8/in
参考报价:
总点击数:
16046
更新日期:
2021-04-29
产品类别:

性能参数

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电子邮件:allenwu@haisi-china.com

官方网址:www.haisi-china.com

  1. 原子力显微镜

将一个对微弱力极敏感的微悬臂一端固定,另一端有一微小的针尖,针尖与样品表面轻轻接触,由于针尖尖端原子与样品表面原子间存在极微弱的排斥/吸引力,带有针尖的微悬臂将对应于针尖与样品表面原子间作用力的等位面而在垂直于样品的表面方向起伏运动。利用光学检测法可测得微悬臂对应于扫描各点的位置变化,从而可以获得样品表面形貌的信息。

 

Bruker原子力显微镜-- Dimension Icon

Bruker公司的AFM具有多项专利技术,以其卓越的性能广泛应用于科研和工业界各领域

Dimension Icon 系列作为布鲁克公司(Bruker AXS)原子力显微镜的旗舰产品,凝聚了多项行业领先的专利技术,是二十多年技术创新、客户反馈和行业应用的结晶。

 

应用:

应用于科研和工业界各领域,涵盖了聚合物材料表征,集成光路测量,材料力学性能表征,MEMS制造,金属/合金/金属蒸镀的性质研究,液晶材料性能表征,分子器件,生物传感器,分子自组装结构,光盘存储,薄膜性能表征等领域的监测等各类科研和生产工作。

 

原理:

将一个对微弱力极敏感的微悬臂一端固定,另一端有一微小的针尖,针尖与样品表面轻轻接触,由于针尖尖端原子与样品表面原子间存在极微弱的排斥力,通过在扫描时控制这种力的恒定,带有针尖的微悬臂将对应于针尖与样品表面原子间作用力的等位面而在垂直于样品的表面方向起伏运动。利用光学检测法或隧道电流检测法,可测得微悬臂对应于扫描各点的位置变化,从而可以获得样品表面形貌的信息。

原子力显微镜的工作模式是以针尖与样品之间的作用力的形式来分类的。主要有以下3种操作模式:接触模式(contact mode) ,非接触模式( non - contact mode) 和敲击模式( tapping mode)。

 

特征:

u       低漂移和低噪音水平

u       配置有专有ScanAsys原子成像优化技术,可以简易快速稳定成像

u       测试样品尺寸可达:直径210mm,厚度15mm

u       温度补偿位置传感器使Z轴和X-Y轴的噪音分别保持在亚-埃级和埃级水平,并呈现出前所未有的高分辨率。

u       全新的XYZ闭环扫描头在不损失图像质量的前提下大大提高了扫描速度。

u       探针和样品台的开放式设计使Icon 可胜任各种标准和非标准的实验。

u       先进的布鲁克AFM的模式和技术,如高次谐波共振模式,和独有的不失真高温成像技术--采用对针尖和样品同时加热的方法,最大程度减少针尖和样品之间的温差,避免造成成像失真。

 

 

部分选择项:

 

参数:

X-Y扫描范围:             90µm x 90µm(标准), 85µm (最小)

Z扫描范围:               10um(标准成像与压力模式),9.5um(最小)

X-Y噪声(闭环):          ≤0.15 nm RMS,标准成像带宽,(可达625 Hz)

Z噪声(闭环):            35pm RMS,标准成像带宽,(可达625HZ)

                               50pm RMS,力曲线带宽,(0.1HZ-5KHZ)

非线性积分(X-Y-Z):       <0.5%

样品大小:                 真空吸盘210mm,直径 ≤210mm,厚度 ≤15mm

电动定位平台(X-Y):       180mm × 150mm 检测区域;

                               2µm重复性, 单向;

                               3µm 重复性,双向;

光学显微镜:               500万像素的数码相机;
                               180微米至1465μm可视面积;
                               数码变焦和机动焦点

控制器:                   NanoScope V

工作台:                   整合了所有控制器,符合物理和人体工学设计

隔振装置:                 集成化,气动

隔音装置:                 可在连续85DBC环境下连续工作

公司简介

专业从事接近式光刻机研发生产与销售,同时也是目前国内主流的欧美及国内先进半导体设备供应商及系统集成商和打包解决方案提供者。我们不但可以提供完整的半导体工艺流程所需各种设备,包括半导体前道工艺、后道封装和测试所需的设备,而且还专精于根据用户需要,客户化定制集成整条工艺生产线,测试线及打包系统工艺解决方案等。

 我们提供的产品均属于高科技行业,产品包括高精度的芯片制造工艺设备、检测仪器和以及配套的耗材和配件,这些产品广泛应用于MEMS,集成电路、混合模块、化合物半导体、光电模块、3D封装,光学器件、功率器件,微纳米加工等各个领域,目前已与国际多家知名半导体制造企业建立了合作关系,为客户提供产品和服务。我们秉承“客户至上,锐意进取”的宗旨,从客户的实际需求出发,提供持续良好的售后服务。


售后服务
我方承诺在设备到货后的一周内根据用户要求安排仪器的安装及调试。 安装仪器之前,我方会向用户提供详细的仪器安装指南,并向用户提供仪器安装所需的配套设备信息表。 我方承诺派遣1~2名经验丰富的高水平工程师完成仪器的安装与调试,并负责为用户培训2~3名操作人员(具体操作员人数也可根据实际情况由用户确定),保证用户能够独立操作使用仪器。
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