RIE刻蚀 NRE-4000（M）反应离子刻蚀机--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

RIE刻蚀 NRE-4000（M）反应离子刻蚀机

英文名称：

国产/进口：

进口

产地/品牌：

美国那诺-马斯特

型号：

NRE-4000（M）

参考报价：

销售商：

那诺-马斯特中国有限公司

总点击数：

3102

更新日期：

2025-10-13

产品类别：

其它各类仪器

性能参数

NRE-4000（M）反应离子刻蚀概述：

NRE-4000是一款独立式RIE系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持大到12”的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。

该系统是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。

NRE-4000（M）反应离子刻蚀产品特点：

铝质腔体或不锈钢腔体
不锈钢立柜
能够刻蚀硅的化合物(~400Å /min)以及金属
典型的硅刻蚀速率，400 Å/min
高达12”的阳极氧化铝RF样品台
水冷及加热的RF样品台
大自偏压
淋浴头气流分布
极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别
涡轮分子泵
至多支持8个MFC
无绕曲气体管路
自动下游压力控制
双刻蚀能力支持：RIE以及PE刻蚀（可选）
终点监测
气动升降顶盖
手动上下载片
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问保护
完全的安全联锁
可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀

NRE-4000（M） Features：

Aluminum or Stainless Steel Chamber
Stainless Steel Cabinet
Capable of etching Si compounds (~400 Å /min)and metals
Typical Si etch rate, 400 Å/min
Up to 12“ Anodized RF Platen
Water Cooled and Heated RF Platen
Large Self Bias
Shower Head gas distribution
Approximay 10-6 Torr < 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torr base pressure
Turbomolecular Pump
Up to eight MFCs
No flexing of gas lines
Down Stream Pressure Control
Dual Etch capability: RIE and Plasma Etch（Option）
End Point Detection
Pneumatically Lifted Top
Manual loading/unloading
PC Controlled with LabVIEW
Recipe Driven, Password Protected
Fully Safety Interlocked
Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etch

公司简介

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月，是服务大中华区(包含中国大陆，香港，台湾和澳门)的客户，同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室，提供销售和售后技术服务。那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD，用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD，溅射镀膜(反应溅、共溅、组合溅)，热蒸发和电子束蒸发，离子束刻蚀和反应离子刻蚀，原子层沉积，兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商，已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员，使得公司拥有一流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商，我们的目标是提供高品质的服务并始终维持最高水平的集成度。

售后服务

品质：提供优质的产品和服务，同时通过持续的改进保证对品质的个人所有权。我们选择最好的人选参与到我们的工作，员工均具有丰富的领域经验。承诺：致力于客户的成功。并且伴随按时、按规格、控制预算成本。开发、成长和繁荣以保持竞争水平，并能够以最好的方式服务我们的客户和我们的社区。创新：我们识别、开发并部署最前沿的技术、员工发展计划和过程改进工具。我们认识到创新与效率、产能和品质之间的密切关系。