生物芯片处理

芬兰PICOSUN原子层沉积系统

基本信息
产品名称:
芬兰PICOSUN原子层沉积系统
英文名称:
ALD
国产/进口:
进口
产地/品牌:
芬兰PICOSUN
型号:
R-200
参考报价:
120~500万RMB
总点击数:
1089
更新日期:
2024-11-27
产品类别:

性能参数

芬兰PICOSUN公司是ALD技术发明人Tuomo Suntola创立的,与Picosun专家队伍被称为ALD的梦之队。

Suntola于1974年发明ALD技术,因此获得半导体行业European SEMI 2004奖。

PICOSUN公司凭借其杰出的生产型与科研型产品,于2022年6月加入美国应用材料公司。

 

PICOSUN产品分为科研型与生产型。

科研型产品有:

标准型PICOSUN™ R-200 Standard,只有热法原子层沉积系统

高级型PICOSUN™ R-200 Advanced,有热法原子层沉积系统等离子体增强原子层沉积系统

高级型ALD可以添加前沿的微波等离子体辅助增强模块Microwave Plasma, 这种微波等离子体增强原子层沉积系统在颗粒、薄膜致密性表现更好,同时有可能沉积具有挑战性的一些氮化物薄膜,如氮化硅等。

公司简介
北京伯英科技有限公司致力于引进世界先进的技术与仪器设备,为中国用户的科研服务。
世有伯乐,而后有千里马。公司致力于成为我们的用户所需要的千里马,为用户提供世界先进的科研仪器设备与技术服务;公司致力于成为伯乐,致力于挖掘世界先进的技术与科研仪器设备,为用户的科研服务;公司致力于成为伯乐,致力于给我们的员工提供卓越的发展平台,共同发展进步。
我们的产品可用于生命科学(分子相互作用),胶体与化学表界面,薄膜沉积与表征,微电子与半导体行业,航空航天器件可靠性检测,以及其他集成电路与器件可靠性检测与失效分析,混凝土行业,无损超声探伤检测,超声医学成像等方面。
伯英科技,志行千里!

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