RTP快速退火炉红外加热PID控温--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

RTP快速退火炉红外加热PID控温

英文名称：

国产/进口：

国产

产地/品牌：

中国

型号：

Table-6|8

参考报价：

380000

销售商：

上海螣芯电子科技有限公司

总点击数：

1331

更新日期：

2026-04-04

产品类别：

其它各类仪器

性能参数

RTP快速退火炉高温持温能力，1000℃持温可达30min

快速退火炉RTP-Table-6

RTP-Table-6是在保护气氛下的桌面手动快速退火系统，以红外可见光加热单片Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 2-6 英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系统和其他 RTP 系统，其腔体设计、温度控制技术和RL900软件控制系统，确保了极好的热均匀性。

快速退火炉RTP-Table-6产品介绍

概要

RTP-Table-6是在保护气氛下的桌面手动快速退火系统，以红外可见光加热单片Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 2-6 英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系统和其他 RTP 系统，其腔体设计、温度控制技术和RL900软件控制系统，确保了极好的热均匀性。

产品特点

▲红外卤素灯管加热，冷却采用风冷;

▲灯管功率PID控温，可***控制温度升温，***良好的重现性与温度均匀性;

▲采用平行气路进气方式，气体的进入口设置在Wafer表面，避免退火过程中冷点产生，***产品良好的温度均匀性;

▲大气与真空处理方式均可选择，进气前气体净化处理;

▲标配两组工艺气体，***多可扩展至6组工艺气体;

▲可测单晶片样品的尺寸为6英寸（150mm）;

▲采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，***保障仪器使用安全。

行业应用

A、氧化物、氮化物生长

B、硅化物合金退火

C、砷化镓工艺

D、欧姆接触快速合金

E、氧化回流

F、其他快速热处理工艺

基本配置

项目	指标
产品尺寸	6寸晶圆或者支持150x150mm产品
温度范围	室温~1250℃
升温速度	100℃/s可编程(此温度为不含载盘的升温速度)
温度均匀度	±5℃≤ 500℃ ±1% >500℃
温度控制重复性	±1℃
温控方式	快速 PID 温控
衬底冷却方式	氮气吹扫
工艺气体	MFC控制，常规三路气体(N/O/GN)
控制方式	工业电脑+PC control

公司简介

上海螣芯电子科技有限公司
公司网址：www.tengxin-ch.com
联系方式：howie Lou 13122976482
螣芯电子科技有限公司主要为半导体、微组装领域的客户提供设备集成和技术服务。目前公司拥有在半导体制造、微组装领域经验丰富的专业技术团队，主要服务于：
半导体工艺：磁控溅射/电子束蒸发/PECVD/光刻/ICP/RIE/晶圆键合机/涂胶/显影/去胶设备
半导体检测：晶圆AOI/AFM/台阶仪/三维光学轮廓仪/扫描电镜/薄膜应力设备/光刻胶厚度测试仪设备
封装工艺：粘片/引线键合/平行封焊/共晶烧结炉/等离子清洗设备
封装检测：x光机/推拉力测试仪/氦检漏仪/AOI设备
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