纳米压印光刻胶MR-I T85系列
德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。
MR-I T85系列
热塑性NIL抵抗剂 基于非极性环烯烃共聚物(TOPAS)的T-NIL抗蚀剂(Tg = 85°C)
特征:
1)用于制造微流体或芯片实验室设备的薄膜厚度可能高达5 µm
2)100%有机热塑性塑料→可以使用纯氧等离子体进行干法蚀刻和剥离
3)在紫外线/可见光范围内具有最高的光学透明度,并具有针对不同溶剂,酸和碱的独特化学稳定性
应用领域
芯片实验室系统
1)生物应用 4)波导
2)微流控 5)单层和多层系统
3)微光学元件 6)用于图案转印过程的掩模
处理步骤
玻璃化温度 85°摄氏度
烙印温度 130 – 150°C
压印压力 5 – 20巴
适用于各种膜厚(3000 rpm)*
mr-I T85-0.3 300 nm
mr-I T85-1.0 1.0 µm
mr-I T85-5.0 5.0 µm
*可根据要求提供定制的膜厚
单位名称: |
详细地址:
湖北省武汉市洪山区珞珈山大厦主楼15层1506室
|
qq:
3488598979
|
联系电话: |
Email: |