Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
基本信息
产品名称：
Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
英文名称：
Centrotherm-Activator 150
国产/进口：
进口
产地/品牌：
德国
型号：
Centrotherm-Activat
参考报价：
2 000 000
销售商：
总点击数：
2878
更新日期：
2025-06-06
产品类别：
性能参数
Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150
Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
一、产品简介
Centrotherm Activator 150 高温炉设计用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm独特工艺炉管和加热系统设，允许工艺温度达到 1850 ℃。
此外，Activator 150 系列的产品可以实现生长石墨烯生长。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。
Centrotherm 新一代SiC工艺炉管的研发用以满足新兴的150 毫米 SiC工艺。
Centrotherm Activator 150-5 是为研发工作而特制的，而Centrotherm Activator 150-50专为大批量生产设计。
广泛的工艺范围实现了对自定义化程序的优化, 例如温度, 气路系统和压力。
二、典型应用
SiC器件高温退火 （注入后）
GaN器件退火
大面积石墨烯生长
SiC表面制备
三、产品特性
性能和优势
高活化效率
最小表面粗糙度
最大温度可达 1850 ℃
占地面积小 [1.8m2]
升温速率可达 100 K/min
批处理晶片尺寸包括 2″、3″、4″、6″
批处理数量达到 40片2″/或3″硅片, 50片4″/或6″硅片
真空度小于10-3 mbar （可选）
可并排安装
选项
上下料腔室微环境控制
自动机械手装片
测温热偶
Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
一、产品简介
Centrotherm Activator 150 高温炉设计用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm独特工艺炉管和加热系统设，允许工艺温度达到 1850 ℃。
此外，Activator 150 系列的产品可以实现生长石墨烯生长。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。
Centrotherm 新一代SiC工艺炉管的研发用以满足新兴的150 毫米 SiC工艺。
Centrotherm Activator 150-5 是为研发工作而特制的，而Centrotherm Activator 150-50专为大批量生产设计。
广泛的工艺范围实现了对自定义化程序的优化, 例如温度, 气路系统和压力。
二、典型应用
SiC器件高温退火 （注入后）
GaN器件退火
大面积石墨烯生长
SiC表面制备
三、产品特性
性能和优势
高活化效率
最小表面粗糙度
最大温度可达 1850 ℃
占地面积小 [1.8m2]
升温速率可达 100 K/min
批处理晶片尺寸包括 2″、3″、4″、6″
批处理数量达到 40片2″/或3″硅片, 50片4″/或6″硅片
真空度小于10-3 mbar （可选）
可并排安装
选项
上下料腔室微环境控制
自动机械手装片
测温热偶
公司简介
上海银雀科技成立于 1998 年，成立以来一直专注于半导体工艺设备、微纳米加工平台等领域的设备集成供应和技术服务。MEMS、3D 封装、化合物半导体、微波器件、功率器件等众多领域。目前公司已经与众多微电子、半导体设备行业的国际知名企业建立了良好的合作关系；EVG（光刻、键合）、Bruker（微纳检测）、TESCAN（扫描电镜） 是其中几家重要的合作伙伴。
售后服务
相关视频
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资料下载
暂无
联系方式
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详细地址：
上海市嘉定工业区叶城路
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qq：
1255610068
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联系电话：
0632-5976067
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