ArFab 100 氩离子抛光仪/CP离子研磨抛光仪
基本信息
产品名称：
ArFab 100 氩离子抛光仪/CP离子研磨抛光仪
英文名称：
国产/进口：
国产
产地/品牌：
北京/裕隆时代
型号：
ArFab 100
参考报价：
销售商：
总点击数：
987
更新日期：
2026-04-03
产品类别：
性能参数
尚丰科技向用户提供性能优越的裕隆时代ArFab100氩离子抛光仪，为电镜、电子
探针、原子力显微镜样品进行无损截面制备。
适用范围：新能源材料、非常规能源、半导体、芯片、制药等行业。
大尺寸切抛合一的纳米加工系统
性能优势
- 一套系统兼具离子平面抛光和离子切割功能，操作简捷
- 动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，最大切割长度达10mm，有效减少投影/遮挡效应
- 超大平面抛光装载尺寸25x25mm（直径X高度），为原位试验等大尺寸样品试验提供可能
- 能量0.5-10KV连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区，大幅提高制样效率
- 10英寸彩色触屏，全中文图像用户界面，方便快捷的参数设置，可远程控制
样品适用性
- 无论软硬，多孔或致密，脆性或韧性，热敏感，或非均质多相复合型材料，都可获得高质量无损切割界面
- 切割模式采用独创的微型多轴动态离子切割台，样品切割长度可达10mm
应用案例
- 离子平面抛光后的页岩截面，揭示样品表面纳米级孔隙，左图为无机孔，右图为有机孔。SEM图像，石油地质。
- 离子切割后的手机柔性屏幕内部结构和材料特征。半导体领域
- 离子切割后的电池材料截面，揭示其内部结构。左图为电池阳极几篇，右图为电池隔膜。SEM图像，能源材料领域
- 左图：离子切割后芯片内部结构，右图：离子平面抛光后芯片内部结构。SEM图像，半导体芯片领域。
- 平面抛光后LED焊盘结构。SEM图像，半导体光电领域
- 低电压平面抛光后的合成材料EBSD结构。EBSD图像，新材料领域。
技术参数
| 离子枪 | |
| 离子枪 | 配备两支独立离子枪，可选单枪或双枪模式 |
| 加速电压 | 0.5-10KV连续可调 |
| 工作束流 | 0.5-7mA连续可调 |
| 抛光速率 | 200um/h（10KV，硅样品） |
| 抛光样品台 | |
| 最大样品尺寸 | 50X25mm（直径x高）样品台 |
| 有效抛光区域 | 25X25mm（长x宽） |
| 样品台可移动范围 | X: ±12.5mm |
| 样品台旋转 | 连续旋转或者±360o |
| 旋转速度 | 3-180o/S |
| 抛光角度 | 0-20o连续可调 |
| 动态离子切割样品台 | |
| 最大可加工宽度 | ≥10mm |
| 最大样品尺寸 | 50(L)×10(W)×35(H)mm |
| 样品台可移动范围 | ±12.5mm |
| 摆动角度 | ±15o，任意选择 |
| 真空系统 | |
| 真空系统 | 两级真空，无油涡旋干泵，支持80L/S涡轮分子泵 |
| 工作启动真空 | 9X10-5 mbar |
| 极限真空 | 5X10-7 mbar |
| 真空规 | 全量程（常压到高真空）冷阴极真空规 |
| 用户界面 | 10英寸触屏，中文操作界面，简洁方便，可远程控制 |
| 电源要求 | 90-264VAC，600W |
尚丰科技
010-62369061, 13693309125
email: sem@ylcorp.com.cn
www.ylcorp.com.cn
公司简介
尚丰科技致力于引进推广先进的材料、生物显微观测及微区分析仪器，向科研人员高附加值服务，促进中国的科学技术发展。
尚丰科技产品包括德国Point Electronic电子束感生电流分析系统EBIC，电子束吸收电流分析系统EBAC-RCI，扫描透射电子束感生电流分析系统STEBIC等，以及德国MICROTEC大型精密切片机等等。
我们拥有一支涉及众多领域高素质的应用支持团队，为各行业的应用需求提供专业的解决方案和售后服务。
尚丰科技产品包括德国Point Electronic电子束感生电流分析系统EBIC，电子束吸收电流分析系统EBAC-RCI，扫描透射电子束感生电流分析系统STEBIC等，以及德国MICROTEC大型精密切片机等等。
我们拥有一支涉及众多领域高素质的应用支持团队，为各行业的应用需求提供专业的解决方案和售后服务。
售后服务
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