Elionix 电子束光刻
基本信息
产品名称：
Elionix 电子束光刻
英文名称：
国产/进口：
进口
产地/品牌：
Elionix
型号：
Elionix
参考报价：
销售商：
总点击数：
604
更新日期：
2022-09-14
产品类别：
性能参数
高効率加工电子束曝光系統 High Efficient Electron Beam Lithography System ELS-HS50 ELS-HS50主要概要 • 束斑电流 1nA to 1000nA • 最小线宽优于 20nm or less • Sub μ order to Nano order patterning • 最小剂量时间10nsec(100MHz) 束斑形状：圆形束斑 加速电压： 50 kV 束斑电流：1nA~1000nA 最小束斑尺寸：5 nm 最小线宽：优于20nm 写场尺寸：1,500 μm 最小剂量时间：10nsec(100MHz) 最小剂量增量:0.1nsec(10GHz) 晶圆尺寸: 小片基板 ~ 8inch 操作系统 Windows 10 规格 Specifications EB area μm〜mm 尺寸 ： 激光光刻 or 光光刻 nm尺寸 ： 电子束光刻 套刻不要 可以使用相同的胶材料 只要 电子束光刻机 激光光刻 ：高效率加工 ⇔ 精细加工不可能 电子束光刻 ：精细加工⇔可能 低效率加工 高效率加工 精细加工 相同的胶材料 ELS- HS50 ELS-HS50是时间有效的理由 The writing time has a Inverse proportion with Beam current texp 电子束扫描時間 S 电子束扫描面積 Eth 电子束胶感度 Ib 电子电流 resist Substrate 电子束 写入时间与波束电流成反比 Application 高电子束 根据图案大小 电子束交換 ELS- HS50 加速电压： 50 kV 电子电流： 100 nA Fluids width: 5 μm ● microfluidics pattern 5 μm 扫描時間 60 sec ●L&S 间距 500nm 500nm 加速电压： 50 kV 电子电流： 500 nA 样品尺寸: 4inch 扫描時間 5 hours Provided by Taniguchi Lab. Osaka University
公司简介
苏州海思微电子科技有限公司是专业从事半导体设备设计、研发与销售，同时也是目前国内主流的欧美及国内先进半导体设备供应商及系统集成商和打包解决方案提供者。 海思科技产品涵盖： 半导体工艺：紫外接触式光刻机|ICP刻蚀机|RIE刻蚀机|晶圆键合机|涂胶显影机|干法等离子去胶机 磁控溅射设备/电子束蒸发、热蒸发台|PECVD等离子沉积设备|ICP-PECVD感应耦合等离子沉积设备 半导体检测：晶圆AOI|原子力显微镜|台阶仪|三维光学轮廓仪|扫描电镜|应力测试设备|膜厚仪 封装工艺 ：环氧、共晶贴片机|引线键合机||等离子清洗机|倒装键合机 封装检测 ：推拉力测试机|X-ray 设备|超声波扫描仪|测量显微镜|3D显微镜
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