光刻机
基本信息
产品名称：
光刻机
英文名称：
国产/进口：
国产
产地/品牌：
中国
型号：
wh
参考报价：
销售商：
总点击数：
1350
更新日期：
2015-01-12
产品类别：
性能参数
光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、等工序
Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；
在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
公司简介
售后服务
相关视频
暂无
资料下载
暂无
联系方式
| 单位名称： |
|
详细地址：
海淀区北四环中路238号柏彦大厦406F
|
|
qq：
|
|
联系电话：
18136773235
|
| Email： |
