无掩膜光刻机
这套无掩膜光刻机具有无掩模光刻技术的便利，大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。
这款无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。
无掩模光刻系统，无掩膜光刻机特色
尺寸：925x925x1600mm
内置计算机控制接口
激光光源：375nm或405nm
视频辅助定位系统
自动聚焦设置
无掩模光刻机，无掩膜光刻机参数
线性写取速度：>500mm/s
重复精度： 100nm
晶圆写取面积：1—6英寸
衬底厚度：250微米-10毫米
激光点大小：1-100微米
准直精度：500nm
http://www.f-lab.cn/xinpianzhizuo/ms10.html
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