EVG610单面/双面光刻机
基本信息
产品名称：
EVG610单面/双面光刻机
英文名称：
EVG610单面/双面光刻机
国产/进口：
进口
产地/品牌：
奥地利
型号：
EVG 610单面/双面光刻机
参考报价：
1 000 000
销售商：
总点击数：
13956
更新日期：
2026-04-01
产品类别：
性能参数
EVG610单面/双面光刻机
- 简介
EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。
目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。
EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理zui大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在几分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。
二、应用范围
EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。
三、主要特点
- 支持背面对准光刻和键合对准工艺
- 自动的微米计控制曝光间距
- 自动契型补偿系统
- 优异的全局光强均匀度
- 免维护单独气浮工作台
- zui小化的占地面积
- Windows图形化用户界面
- 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）
四、技术参数
| 衬底/晶片尺寸（mm） | 小片--200mm，150mm*150mm，0.1-10mm 厚度 | |
| 掩膜板zui大尺寸 | zui大9'*9' | |
| 物镜间距 | 8-30mm连续可调 | |
| 对准方式 | 上部对准，CCD | ±0.5um |
| 上部对准，目镜 | 可选 | |
| 底部对准 | 可选 | |
| 透过式红外对准 | 可选 | |
| 键合对准 | 可选 | |
| 原位对准校正 | 可选 | |
| 工作台 | 精密微米计 | 手动 |
| 载片台 | 真空吸盘式，标配4寸，可扩至8寸 | |
| 接触压力 | 5-80N可调 | |
| 曝光 | 方式 | 接近式，软、硬、真空接触 |
| 分辨率 | 接触式<0.8um,接近式≥2um | |
| 波长 | 350-450nm,可选200nm | |
| 光强均匀性 | ≤2% | |
| 汞灯 | 350W，500W | |
公司简介
上海银雀科技成立于 1998 年，成立以来一直专注于半导体工艺设备、微纳米加工平台等领域的设备集成供应和技术服务。MEMS、3D 封装、化合物半导体、微波器件、功率器件等众多领域。目前公司已经与众多微电子、半导体设备行业的国际知名企业建立了良好的合作关系；EVG（光刻、键合）、Bruker（微纳检测）、TESCAN（扫描电镜） 是其中几家重要的合作伙伴。
售后服务
相关视频
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资料下载
暂无
联系方式
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详细地址：
上海市嘉定工业区叶城路
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qq：
1255610068
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联系电话：
0632-5976067
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