国产双面紫外光刻机URE-2000/A型
基本信息
产品名称：
国产双面紫外光刻机URE-2000/A型
英文名称：
国产/进口：
国产
产地/品牌：
国内
型号：
URE-2000/A
参考报价：
1
销售商：
总点击数：
6204
更新日期：
2025-10-20
产品类别：
性能参数
| 产品名称：URE-2000/A型紫外光刻机 | |
| 主要技术指标： | |
| 曝光面积：150mm×150mm | |
| 分辨力：0.8～1μm（胶厚1.5μm的正胶） | |
| 对准精度：±0.6μm | |
| 最大胶厚：500μm（SU8胶） | |
| 掩模尺寸:3inch、4inch、5inch、7inch | |
| 样片尺寸：直径Ф15mm-Ф150mm、厚度0.1mm-6mm | |
| 照明均匀性：±3.5%Ф100mm)；±5.5%(Ф150mm) | |
| 汞灯功率：1000W（直流） | |
| 掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6° | |
| 技术特点： | |
| 该机采用i线紫外曝光光源，光学系统采用特殊的消衍射和线条陡直增强技术，采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明，并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统（可同时使用），曝光能量高，聚光角度小，突具厚胶曝光功能，曝光设定采用微机控制，菜单界面友好，操作简便。 | |
公司简介
上海螣芯电子科技有限公司
公司网址：www.tengxin-ch.com
联系方式：howie Lou 13122976482
螣芯电子科技有限公司主要为半导体、微组装领域的客户提供设备集成和技术服务。目前公司拥有在半导体制造、微组装领域经验丰富的专业技术团队，主要服务于：
半导体工艺：磁控溅射/电子束蒸发/PECVD/光刻/ICP/RIE/晶圆键合机/涂胶/显影/去胶设备
半导体检测：晶圆AOI/AFM/台阶仪/三维光学轮廓仪/扫描电镜/薄膜应力设备/光刻胶厚度测试仪设备
封装工艺：粘片/引线键合/平行封焊/共晶烧结炉/等离子清洗设备
封装检测：x光机/推拉力测试仪/氦检漏仪/AOI设备
螣芯电子科技秉承为客户提供优质技术产品方案，不断优化业务结构和提升服务品质，持续为客户提供高品质服务。
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半导体工艺：磁控溅射/电子束蒸发/PECVD/光刻/ICP/RIE/晶圆键合机/涂胶/显影/去胶设备
半导体检测：晶圆AOI/AFM/台阶仪/三维光学轮廓仪/扫描电镜/薄膜应力设备/光刻胶厚度测试仪设备
封装工艺：粘片/引线键合/平行封焊/共晶烧结炉/等离子清洗设备
封装检测：x光机/推拉力测试仪/氦检漏仪/AOI设备
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