EVG®850 SOI的自动化生产键合系统
基本信息
产品名称：
EVG®850 SOI的自动化生产键合系统
英文名称：
EVG®850 Automated Production Bonding System for SOI
国产/进口：
进口
产地/品牌：
奥地利
型号：
EVG®850
参考报价：
0
销售商：
总点击数：
634
更新日期：
2026-04-01
产品类别：
性能参数
EVG®850 Automated Production Bonding System for SOI
EVG®850 SOI的自动化生产键合系统
自动化生产键合系统，适用于多种融合/分子晶圆键合应用
技术数据
SOI晶片是微电子行业有望生产出更快，性能更高的微电子设备的有希望的新基础材料。晶圆键合技术是SOI晶圆制造工艺的一项关键技术，可在绝缘基板上实现高质量的单晶硅膜。借助EVG850 SOI生产粘合系统，SOI粘合的所有基本步骤-从清洁和对准到预粘合和红外检查-都结合了起来。因此，EVG850确保了高达300 mm尺寸的无空隙SOI晶片的高产量生产工艺。 EVG850是唯一在高通量，高产量环境下运行的生产系统，已被确立为SOI晶圆市场的行业标准。
特征
生产系统可在高通量，高产量环境中运行； 自动盒带间或FOUP到FOUP操作
无污染的背面处理； 超音速和/或刷子清洁
机械平整或缺口对齐的预粘合； 先进的远程诊断
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）：100-200、150-300毫米
全自动盒带到盒带操作
预粘接室
对齐类型：平面到平面或凹口到凹口
对准精度：X和Y：±50 µm，θ：±0.1°
结合力：最高5 N
键合波起始位置：从晶圆边缘到中心灵活
真空系统：9x10-2 mbar（标准）和9x10-3 mbar（涡轮泵选件）
清洁站
清洁方式：冲洗（标准），超音速喷嘴，超音速面积传感器，喷嘴，刷子（可选）
腔室：由PP或PFA制成（可选）
清洁介质：去离子水（标准），NH4OH和H2O2（最大）。 2％浓度（可选）
旋转卡盘：真空卡盘（标准）和边缘处理卡盘（选件），由不含金属离子的清洁材料制成
旋转：最高3000 rpm（5 s）
清洁臂：最多5条介质线（1个超音速系统使用2条线）
可选功能：ISO 3迷你环境（根据ISO 14644）； LowTemp™等离子活化室；
红外检查站
EVG®850 SOI的自动化生产键合系统
自动化生产键合系统，适用于多种融合/分子晶圆键合应用
技术数据
SOI晶片是微电子行业有望生产出更快，性能更高的微电子设备的有希望的新基础材料。晶圆键合技术是SOI晶圆制造工艺的一项关键技术，可在绝缘基板上实现高质量的单晶硅膜。借助EVG850 SOI生产粘合系统，SOI粘合的所有基本步骤-从清洁和对准到预粘合和红外检查-都结合了起来。因此，EVG850确保了高达300 mm尺寸的无空隙SOI晶片的高产量生产工艺。 EVG850是唯一在高通量，高产量环境下运行的生产系统，已被确立为SOI晶圆市场的行业标准。
特征
生产系统可在高通量，高产量环境中运行； 自动盒带间或FOUP到FOUP操作
无污染的背面处理； 超音速和/或刷子清洁
机械平整或缺口对齐的预粘合； 先进的远程诊断
技术数据晶圆直径（基板尺寸）：100-200、150-300毫米
全自动盒带到盒带操作
预粘接室
对齐类型：平面到平面或凹口到凹口
对准精度：X和Y：±50 µm，θ：±0.1°
结合力：最高5 N
键合波起始位置：从晶圆边缘到中心灵活
真空系统：9x10-2 mbar（标准）和9x10-3 mbar（涡轮泵选件）
清洁站
清洁方式：冲洗（标准），超音速喷嘴，超音速面积传感器，喷嘴，刷子（可选）
腔室：由PP或PFA制成（可选）
清洁介质：去离子水（标准），NH4OH和H2O2（最大）。 2％浓度（可选）
旋转卡盘：真空卡盘（标准）和边缘处理卡盘（选件），由不含金属离子的清洁材料制成
旋转：最高3000 rpm（5 s）
清洁臂：最多5条介质线（1个超音速系统使用2条线）
可选功能：ISO 3迷你环境（根据ISO 14644）； LowTemp™等离子活化室；
红外检查站
公司简介
上海银雀科技成立于 1998 年，成立以来一直专注于半导体工艺设备、微纳米加工平台等领域的设备集成供应和技术服务。MEMS、3D 封装、化合物半导体、微波器件、功率器件等众多领域。目前公司已经与众多微电子、半导体设备行业的国际知名企业建立了良好的合作关系；EVG（光刻、键合）、Bruker（微纳检测）、TESCAN（扫描电镜） 是其中几家重要的合作伙伴。
售后服务
相关视频
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资料下载
暂无
联系方式
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详细地址：
上海市嘉定工业区叶城路
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qq：
1255610068
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联系电话：
0632-5976067
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