EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
基本信息
产品名称：
EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
英文名称：
EVG®610 UV Nanoimprint Lithography System
国产/进口：
进口
产地/品牌：
奥地利
型号：
EVG®610 紫外线纳米
参考报价：
0
销售商：
总点击数：
1098
更新日期：
2025-10-20
产品类别：
性能参数
EVG®610 UV Nanoimprint Lithography System
EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到最大150毫米
技术数据
该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键合对齐和纳米压印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。
对于压印工艺，EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括邮票的释放机制。 EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的印记，该卡盘支持软性和硬性印模。
特征
顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和配方控制的曝光间隙
支持最新的UV-LED技术
最小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和光刻工艺之间的转换； 台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能：键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：最大150毫米的碎片；柔软的UV-NIL：最大150毫米的碎片
解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程
柔软的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外线LED光源
自动分离：不支持；
工作印章制作：外部；
EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到最大150毫米
技术数据
该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键合对齐和纳米压印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。
对于压印工艺，EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括邮票的释放机制。 EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的印记，该卡盘支持软性和硬性印模。
特征
顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和配方控制的曝光间隙
支持最新的UV-LED技术
最小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和光刻工艺之间的转换； 台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能：键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：最大150毫米的碎片；柔软的UV-NIL：最大150毫米的碎片
解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程
柔软的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外线LED光源
自动分离：不支持；
工作印章制作：外部；
公司简介
上海银雀科技成立于 1998 年，成立以来一直专注于半导体工艺设备、微纳米加工平台等领域的设备集成供应和技术服务。MEMS、3D 封装、化合物半导体、微波器件、功率器件等众多领域。目前公司已经与众多微电子、半导体设备行业的国际知名企业建立了良好的合作关系；EVG（光刻、键合）、Bruker（微纳检测）、TESCAN（扫描电镜） 是其中几家重要的合作伙伴。
售后服务
相关视频
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资料下载
暂无
联系方式
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详细地址：
上海市嘉定工业区叶城路
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qq：
1255610068
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联系电话：
0632-5976067
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