韩国Mask Aligner光刻机M-150
| 类型 | PLC手动控制系统 | 波长 | 350 ~ 450 nm |
| 掩膜版尺寸 | 最大7英寸 | 紫外光强度 | 15 ~ 25/ ㎠ |
| 基片尺寸 | 6英寸 | 紫外线光束均匀度 | 3 ~ 5 % |
| 分辨率 | 1 ㎛ | 接触模式 | 真空/硬/软/接近 |
| 对准精度 | 1 ㎛ | 显微镜 | 双CCD变焦显微镜 |
| 紫外灯和电源 | 350W | 选配项 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
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