生物芯片处理

韩国Mask Aligner光刻机M-150

基本信息
产品名称:
韩国Mask Aligner光刻机M-150
英文名称:
国产/进口:
进口
产地/品牌:
韩国Mask Aligner
型号:
M-150
参考报价:
总点击数:
752
更新日期:
2022-04-07
产品类别:

性能参数
光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。M系列是用于光刻的掩模对准器。M-150专为6英寸晶圆设计,具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线光源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。
 
技术参数
类型 PLC手动控制系统 波长 350 ~ 450 nm
掩膜版尺寸 最大7英寸 紫外光强度 15 ~ 25/ ㎠
基片尺寸 6英寸 紫外线光束均匀度 3 ~ 5 %
分辨率 1 ㎛ 接触模式 真空/硬/软/接近
对准精度 1 ㎛ 显微镜 双CCD变焦显微镜
紫外灯和电源 350W 选配项 Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA
公司简介

迈可诺技术有限公司是一家致力于光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,在中国大陆设有内地营销服务中心,专业经销欧美日韩著名品牌实验室光电半导体化工仪器设备,零附件,试剂耗材,对中国国内广大客户提供全面的产品咨询和技术销售服务。


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