ABM光刻机高精度紫外光刻机--性能参数，报价/价格，图片

基本信息

产品名称：

ABM光刻机高精度紫外光刻机

英文名称：

国产/进口：

进口

产地/品牌：

美国

型号：

ABM/6/LED/DCCD/BSV/

参考报价：

2000000

销售商：

上海螣芯电子科技有限公司

总点击数：

2083

更新日期：

2026-04-03

产品类别：

其它各类仪器

性能参数

ABM光刻机高精度双面紫外光刻机（手动/全自动对准）双面对准
光学系统

曝光时间调解器：0.1至999.9秒(可调节精度0.1s)；

365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环；

声控功率警报装置可防止系统功率超过设定指标；

有安全保护装置的温度及其气流传感器；

全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度；

波长滤片检查及安装装置；

抗衍射反射功能高效反光镜；

二向色的防热透镜装置；

防汞灯泄漏装置；

配备蝇眼棱镜装置；

配备近紫外光源，
     --220 nm 输出强度 – 大约 8-10 mW/ cm2
     --254 nm 输出强度 – 大约 12-14 mW/ cm2
     --365 nm 输出强度 – 大约 18-20 mW/ cm2
     --400 nm 输出强度 – 大约 30-35 mW/ cm2

主要配置:

6”，8”光源系统

可支持2”，3”，4”，6”，8”（圆/方片）及碎片光刻（支持特殊工艺卡盘设计）

手动系统，半自动系统,

支持电源350-2000 Watt

支持深紫外近紫外波长（可选项）<1.84度；

CCD或显微镜对准系统
主要性能指标：:

光强均匀性Beam Uniformity:
     --<±1% over 2” 区域
     --<±2% over 4” 区域
     --<±2.5% over 6” 区域

接触式样曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um

接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um

支持接近式曝光，特征尺寸CD:
     --0.8um 硬接触
     --1um 20 um 间距时
     --2um 50um 间距时

正面对准精度±0.5um

支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻，特征尺寸：100um-300um

支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻

支持真空、接近式、接触式曝光

支持恒定光强或恒定功率模式

公司简介

上海螣芯电子科技有限公司
公司网址：www.tengxin-ch.com
联系方式：howie Lou 13122976482
螣芯电子科技有限公司主要为半导体、微组装领域的客户提供设备集成和技术服务。目前公司拥有在半导体制造、微组装领域经验丰富的专业技术团队，主要服务于：
半导体工艺：磁控溅射/电子束蒸发/PECVD/光刻/ICP/RIE/晶圆键合机/涂胶/显影/去胶设备
半导体检测：晶圆AOI/AFM/台阶仪/三维光学轮廓仪/扫描电镜/薄膜应力设备/光刻胶厚度测试仪设备
封装工艺：粘片/引线键合/平行封焊/共晶烧结炉/等离子清洗设备
封装检测：x光机/推拉力测试仪/氦检漏仪/AOI设备
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